氦离子辐照对纯钨表面形貌的影响及其性能的变化
摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 引言 | 第9-21页 |
1.1 选题背景 | 第9-11页 |
1.2 面向等离子体材料 | 第11-12页 |
1.3 钨与粒子的相互作用 | 第12-19页 |
1.3.1 中子辐照效应 | 第12-13页 |
1.3.2 D/T辐照效应 | 第13-14页 |
1.3.3 氦辐照效应 | 第14-19页 |
1.4 本课题的研究目的与内容 | 第19-21页 |
第2章 实验方法和实验内容 | 第21-26页 |
2.1 实验材料 | 第21页 |
2.2 实验装置 | 第21-22页 |
2.3 材料分析表征 | 第22-26页 |
2.3.1 光学显微镜 | 第22-23页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
2.3.3 背散射电子衍射分析(EBSD) | 第23页 |
2.3.4 X射线衍射(XRD) | 第23页 |
2.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第23-24页 |
2.3.6 透射电子显微镜(TEM) | 第24页 |
2.3.7 纳米硬度测试 | 第24-26页 |
第3章 纯钨表面与氦相互作用后表面形态的变化 | 第26-35页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 实验过程 | 第26-27页 |
3.3 实验结果与分析 | 第27-33页 |
3.3.1 氦辐照后试样表面形貌变化的结果与分析 | 第27-31页 |
3.3.2 表面形貌与表面晶粒取向的关系 | 第31-32页 |
3.3.3 纳米绒毛的组织结构和成分分析 | 第32页 |
3.3.4 氦辐照电压下钨表面形貌的变化 | 第32-33页 |
3.4 本章小结 | 第33-35页 |
第4章 纯钨氦辐照后表面性能的变化 | 第35-45页 |
4.1 力学性能 | 第35-40页 |
4.1.1 力学性能的研究进展 | 第35-36页 |
4.1.2 力学性能的研究 | 第36-40页 |
4.2 光学性能 | 第40-41页 |
4.3 氦辐照时纯钨的表面溅射 | 第41-43页 |
4.4 本章小结 | 第43-45页 |
第5章 总结 | 第45-47页 |
5.1 总结 | 第45-46页 |
5.2 展望 | 第46-47页 |
致谢 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-55页 |
附录 | 第55页 |