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氦离子辐照对纯钨表面形貌的影响及其性能的变化

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 引言第9-21页
    1.1 选题背景第9-11页
    1.2 面向等离子体材料第11-12页
    1.3 钨与粒子的相互作用第12-19页
        1.3.1 中子辐照效应第12-13页
        1.3.2 D/T辐照效应第13-14页
        1.3.3 氦辐照效应第14-19页
    1.4 本课题的研究目的与内容第19-21页
第2章 实验方法和实验内容第21-26页
    2.1 实验材料第21页
    2.2 实验装置第21-22页
    2.3 材料分析表征第22-26页
        2.3.1 光学显微镜第22-23页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第23页
        2.3.3 背散射电子衍射分析(EBSD)第23页
        2.3.4 X射线衍射(XRD)第23页
        2.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS)第23-24页
        2.3.6 透射电子显微镜(TEM)第24页
        2.3.7 纳米硬度测试第24-26页
第3章 纯钨表面与氦相互作用后表面形态的变化第26-35页
    3.1 引言第26页
    3.2 实验过程第26-27页
    3.3 实验结果与分析第27-33页
        3.3.1 氦辐照后试样表面形貌变化的结果与分析第27-31页
        3.3.2 表面形貌与表面晶粒取向的关系第31-32页
        3.3.3 纳米绒毛的组织结构和成分分析第32页
        3.3.4 氦辐照电压下钨表面形貌的变化第32-33页
    3.4 本章小结第33-35页
第4章 纯钨氦辐照后表面性能的变化第35-45页
    4.1 力学性能第35-40页
        4.1.1 力学性能的研究进展第35-36页
        4.1.2 力学性能的研究第36-40页
    4.2 光学性能第40-41页
    4.3 氦辐照时纯钨的表面溅射第41-43页
    4.4 本章小结第43-45页
第5章 总结第45-47页
    5.1 总结第45-46页
    5.2 展望第46-47页
致谢第47-48页
参考文献第48-55页
附录第55页

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