| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 热电偶 | 第11-12页 |
| 1.1.1 热电偶的工作原理 | 第11页 |
| 1.1.2 热电偶的特点 | 第11-12页 |
| 1.2 钨铼热电偶 | 第12-13页 |
| 1.3 热电偶防氧化技术及意义 | 第13-15页 |
| 1.3.1 高温抗氧化涂层的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3.2 钨铼热电偶防氧化技术及意义 | 第14-15页 |
| 1.4 电弧离子镀技术 | 第15-19页 |
| 1.4.1 多弧高子镀的基本结构和沉积原理 | 第16-18页 |
| 1.4.2 多弧离子镀技术特点 | 第18-19页 |
| 1.5 本文研究目的及内容 | 第19-21页 |
| 第2章 ZRO_2+ZR梯度膜设计及沉积技术 | 第21-31页 |
| 2.1 梯度膜层 | 第21-22页 |
| 2.1.1 功能梯度薄膜的结构和性能 | 第21-22页 |
| 2.1.2 功能梯度膜层的沉积方法 | 第22页 |
| 2.2 ZrO_2+Zr梯度薄膜设计 | 第22-27页 |
| 2.2.1 二氧化锆 | 第24-25页 |
| 2.2.2 锆 | 第25-26页 |
| 2.2.3 氮化锆 | 第26页 |
| 2.2.4 抗氧化梯度薄膜分析 | 第26-27页 |
| 2.3 电弧离子镀沉积ZrO_2+Zr梯度薄膜的优势 | 第27-29页 |
| 2.3.1 电子束蒸发法 | 第27页 |
| 2.3.2 溶胶-凝胶法 | 第27-28页 |
| 2.3.3 电弧离子镀沉积ZrO_2+Zr梯度薄膜的优势 | 第28-29页 |
| 2.3.4 电弧离子镀技术制备ZrO_2-Zr梯度薄膜的可行性分析 | 第29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 实验设备与实验材料 | 第31-44页 |
| 3.1 实验设备与操作 | 第31-36页 |
| 3.1.1 真空获得系统 | 第32-33页 |
| 3.1.2 真空室 | 第33页 |
| 3.1.3 镀膜系统 | 第33-34页 |
| 3.1.4 镀膜辅助系统——线性离子源 | 第34页 |
| 3.1.5 进气系统 | 第34页 |
| 3.1.6 水冷与气动 | 第34页 |
| 3.1.7 电控系统 | 第34-35页 |
| 3.1.8 设备操作 | 第35-36页 |
| 3.2 实验材料与药品 | 第36页 |
| 3.3 薄膜的沉积工艺 | 第36-41页 |
| 3.3.1 基片预处理 | 第37-38页 |
| 3.3.2 镀膜工艺 | 第38-41页 |
| 3.4 表征方法及仪器 | 第41-43页 |
| 3.4.1 扫描电子显微镜 | 第41页 |
| 3.4.2 光学显微镜 | 第41-42页 |
| 3.4.3 X射线衍射仪 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 Z_RO_2+Z_R薄膜制备工艺研究 | 第44-62页 |
| 4.1 引言 | 第44-47页 |
| 4.1.1 主要工艺参数 | 第44-46页 |
| 4.1.2 ZrO_2+Zr薄膜工艺参数 | 第46-47页 |
| 4.2 预加热温度 | 第47-49页 |
| 4.2.1 实验参数及结果分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 小结 | 第48-49页 |
| 4.3 偏压 | 第49-53页 |
| 4.3.1 实验参数 | 第49页 |
| 4.3.2 实验结果与分析 | 第49-53页 |
| 4.3.3 小结 | 第53页 |
| 4.4 工作气氛 | 第53-60页 |
| 4.4.1 实验参数 | 第53-54页 |
| 4.4.2 实验结果与分析 | 第54-60页 |
| 4.4.3 小结 | 第60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 实验及测试 | 第62-70页 |
| 5.1 实验 | 第62-64页 |
| 5.1.1 实验参数 | 第62-63页 |
| 5.1.2 结果与分析 | 第63-64页 |
| 5.1.3 小结 | 第64页 |
| 5.2 测试 | 第64-69页 |
| 5.2.1 测试方法 | 第64-66页 |
| 5.2.2 测试结果与分析 | 第66-68页 |
| 5.2.3 小结 | 第68-69页 |
| 5.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第6章 结论 | 第70-72页 |
| 6.1 总结 | 第70-71页 |
| 6.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
