| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| 1.1 铬污染研究现状 | 第13-19页 |
| 1.1.1 铬的性质与危害 | 第13-14页 |
| 1.1.2 铬的处理技术 | 第14-19页 |
| 1.2 砷污染研究现状 | 第19-23页 |
| 1.2.1 砷的性质与用途 | 第19页 |
| 1.2.2 砷的处理技术 | 第19-20页 |
| 1.2.3 As(III)的氧化技术 | 第20-23页 |
| 1.3 砷、铬共存及其协同处理技术 | 第23-24页 |
| 1.4 辉光放电等离子体技术 | 第24-27页 |
| 1.5 课题的提出与研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验材料与分析 | 第28-36页 |
| 2.1 实验材料 | 第28-31页 |
| 2.2 实验仪器与设备 | 第31页 |
| 2.3 实验分析与计算 | 第31-36页 |
| 第三章 Cr(VI)/S(IV)/亚硫酸盐反应体系内Cr(VI)/As(III)共转化机理研究 | 第36-53页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 实验部分 | 第37页 |
| 3.3 结果分析与讨论 | 第37-52页 |
| 3.3.1 Cr(VI)/S(IV)反应体系的氧化能力 | 第37-40页 |
| 3.3.2 反应物浓度的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.3 溶液pH的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.4 活性物质的检测 | 第44-48页 |
| 3.3.5 金属离子的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.6 机理讨论 | 第49-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 有机羧酸驱动Cr(VI)与As(III)之间电子迁移反应的机理研究 | 第53-67页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验部分 | 第53-54页 |
| 4.3 结果分析与讨论 | 第54-66页 |
| 4.3.1 反应物浓度的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.2 溶液pH的影响 | 第56-58页 |
| 4.3.3 金属离子的影响 | 第58-60页 |
| 4.3.4 反应温度的影响 | 第60-61页 |
| 4.3.5 铬中间产物和有机自由基的检测 | 第61-62页 |
| 4.3.6 其它有机羧酸效果考察 | 第62-64页 |
| 4.3.7 反应机理讨论 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 有机羧酸强化亚硫酸盐还原Cr(VI)的机理研究 | 第67-83页 |
| 5.1 引言 | 第67页 |
| 5.2 实验部分 | 第67-68页 |
| 5.3 结果分析与讨论 | 第68-81页 |
| 5.3.1 有机羧酸对Cr(VI)还原的影响 | 第68页 |
| 5.3.2 反应物浓度和溶液pH的影响 | 第68-71页 |
| 5.3.3 活性物种的检测及其氧化能力的考察 | 第71-74页 |
| 5.3.4 其它有机羧酸效果考察 | 第74-78页 |
| 5.3.5 机理讨论 | 第78-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第六章 草酸强化零价铝还原Cr(VI)的机理研究 | 第83-94页 |
| 6.1 引言 | 第83页 |
| 6.2 实验部分 | 第83-84页 |
| 6.3 结果分析与讨论 | 第84-93页 |
| 6.3.1 草酸强化零价铝还原Cr(VI) | 第84-85页 |
| 6.3.2 反应物浓度的影响 | 第85-86页 |
| 6.3.3 Cr(VI)还原的促进因素 | 第86-91页 |
| 6.3.4 溶液pH的影响 | 第91-92页 |
| 6.3.5 工业应用 | 第92-93页 |
| 6.4 本章小结 | 第93-94页 |
| 第七章 有机羧酸对辉光放电/Cr(VI)反应体系的氧化和还原能力的影响 | 第94-118页 |
| 7.1 引言 | 第94-95页 |
| 7.2 实验装置与操作步骤 | 第95页 |
| 7.3 辉光放电等离子体技术协同处理Cr(VI)和As(III) | 第95-107页 |
| 7.3.1 Cr(VI)和As(III)的协同转化效果 | 第95-98页 |
| 7.3.2 输入能量的影响 | 第98-100页 |
| 7.3.3 溶液性质的影响 | 第100-105页 |
| 7.3.4 不同放电区域氧化能力考察 | 第105-106页 |
| 7.3.5 金属离子的影响 | 第106-107页 |
| 7.4 有机羧酸对Cr(VI)还原与·OH产率的影响 | 第107-117页 |
| 7.4.1 草酸对辉光放电还原Cr(VI)的强化作用 | 第107-108页 |
| 7.4.2 溶液pH以及反应物浓度的影响 | 第108-110页 |
| 7.4.3 草酸对辉光放电/Cr(VI)反应体系氧化能力的影响 | 第110-111页 |
| 7.4.4 有机物对Cr(VI)还原效率的影响 | 第111-112页 |
| 7.4.5 Cr(V)和自由基的检测 | 第112-113页 |
| 7.4.6 其它有机羧酸效果考察 | 第113-114页 |
| 7.4.7 机理讨论 | 第114-117页 |
| 7.5 本章小结 | 第117-118页 |
| 第八章 辉光放电等离子体氧化As(III)以及固定脱除砷的研究 | 第118-131页 |
| 8.1 引言 | 第118页 |
| 8.2 实验部分 | 第118-119页 |
| 8.3 结果分析与讨论 | 第119-130页 |
| 8.3.1 辉光放电体系内As(III)的氧化 | 第119-121页 |
| 8.3.2 辉光放电/芬顿反应复合体系内As(III)的氧化及砷的固定 | 第121-123页 |
| 8.3.3 溶液pH的影响 | 第123-125页 |
| 8.3.4 Fe(II)添加量的影响 | 第125-127页 |
| 8.3.5 有机/无机物的影响 | 第127-130页 |
| 8.4 本章小结 | 第130-131页 |
| 结论与展望 | 第131-134页 |
| 参考文献 | 第134-152页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第152-157页 |
| 致谢 | 第157-158页 |
| 作者简介 | 第158页 |
