摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 光催化半导体材料研究背景 | 第12-13页 |
1.2 半导体光催化剂的光催化原理 | 第13-14页 |
1.3 g-C_3N_4概述 | 第14-17页 |
1.3.1 g-C_3N_4的结构 | 第14-15页 |
1.3.2 g-C_3N_4光催化剂的制备 | 第15-17页 |
1.4 g-C_3N_4光催化材料的改性方法 | 第17-20页 |
1.4.1 半导体复合 | 第17-19页 |
1.4.2 元素掺杂 | 第19页 |
1.4.3 半导体表面贵金属沉积 | 第19-20页 |
1.5 本文的提出及主要研究内容、方法 | 第20-22页 |
第二章 材料制备与检测 | 第22-25页 |
2.1 实验药品与设备 | 第22-23页 |
2.1.1 实验设备 | 第22-23页 |
2.1.2 实验药品 | 第23页 |
2.2 测试与表征 | 第23-24页 |
2.3 光催化性能测试 | 第24-25页 |
2.3.1 光催化反应 | 第24页 |
2.3.2 光催化剂稳定性和可重复利用性测试 | 第24-25页 |
第三章 改性g-C_3N_4/Ag_3VO_4复合物的制备及其在可将光下降解罗丹明B性能研究 | 第25-39页 |
3.1 实验部分 | 第25-26页 |
3.2 形貌及结构表征 | 第26-31页 |
3.2.1 样品的XRD图谱分析 | 第26-27页 |
3.2.2 样品的红外光谱分析 | 第27-28页 |
3.2.3 样品的扫描(SEM)和透射(TEM)图片分析 | 第28-29页 |
3.2.4 样品的元素分析 | 第29-30页 |
3.2.5 样品的X射线光电子能谱 | 第30-31页 |
3.3 样品的性能表征 | 第31-38页 |
3.3.1 样品的紫外可见漫反射光谱分析 | 第31-32页 |
3.3.2 样品的N2吸附脱附曲线分析 | 第32-34页 |
3.3.3 样品的光催化活性和动力学研究 | 第34-35页 |
3.3.4 样品的循环降解稳定性测试 | 第35-36页 |
3.3.5 样品的荧光光谱分析 | 第36-37页 |
3.3.6 捕捉实验和光催化机理的讨论 | 第37-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
第四章 新型CeVO_4/g-C_3N_4光催化剂的制备及其光催化性 能的研究 | 第39-52页 |
4.1 实验部分 | 第39-40页 |
4.2 结构及形貌分析 | 第40-45页 |
4.2.1 样品的XRD图谱分析 | 第40页 |
4.2.2 样品的红外光谱分析 | 第40-41页 |
4.2.3 样品的扫描(SEM)和透射(TEM)图片分析 | 第41-43页 |
4.2.4 样品的热重分析 | 第43页 |
4.2.5 样品的X射线光电子能谱 | 第43-45页 |
4.3 样品的光催化性能研究 | 第45-50页 |
4.3.1 样品的紫外可见漫反射光谱分析 | 第45-46页 |
4.3.2 样品的比表面积测试分析 | 第46-47页 |
4.3.3 样品的催化活性测试 | 第47-48页 |
4.3.4 样品的循环降解稳定性测试 | 第48-49页 |
4.3.5 样品的荧光光谱分析 | 第49页 |
4.3.6 捕捉实验和光催化机理的讨论 | 第49-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-52页 |
第五章 三元复合催化剂Ag/CeVO_4/g-C_3N_4的制备及其光催化性能研究 | 第52-60页 |
5.1 样品的制备 | 第52-53页 |
5.2 样品的结构和形貌表征 | 第53-55页 |
5.2.1 样品的XRD图谱分析 | 第53页 |
5.2.2 样品的扫描(SEM)和透射(TEM)图片分析 | 第53-54页 |
5.2.3 样品的红外光谱分析 | 第54-55页 |
5.3 样品的光催化活性分析 | 第55-59页 |
5.3.1 样品的紫外图谱分析(Uv-vis) | 第55-56页 |
5.3.2 样品的光催化活性测试 | 第56-57页 |
5.3.3 样品的循环降解稳定性测试 | 第57页 |
5.3.4 样品的荧光光谱分析 | 第57-58页 |
5.3.5 样品的光催化机理讨论 | 第58-59页 |
5.4 本章小结 | 第59-60页 |
第六章 结论与展望 | 第60-63页 |
6.1 结论 | 第60-61页 |
6.2 展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读学位期间的学术研究成果 | 第76页 |