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薄倍增层APD噪声特性及半导体材料输运特性的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第8-20页
    1.1 InP、GaN 材料概述第8-13页
    1.2 APD 增益噪声特性研究进展第13-16页
    1.3 半导体材料载流子输运特性研究进展第16-18页
    1.4 本论文的主要工作和创新点第18-20页
2 薄倍增层 APD 增益噪声特性的研究第20-46页
    2.1 弛豫空间增益-噪声理论第20-28页
    2.2 有效载流子的碰撞离化系数的参数提取以及 DSMT 理论的验证第28-36页
    2.3 初始能量效应第36-44页
    2.4 本章小结第44-46页
3 蒙特卡罗模拟平台的搭建及载流子输运特性的模拟第46-77页
    3.1 蒙特卡罗方法第46-53页
    3.2 解析能带结构的蒙特卡罗模型第53-56页
    3.3 散射机制第56-66页
    3.4 蒙特卡罗程序之中各个参数的计算第66-67页
    3.5 程序之中各材料参数第67-69页
    3.6 载流子稳态输运特性的蒙特卡罗模拟第69-76页
    3.7 本章小结第76-77页
4 总结与展望第77-79页
致谢第79-80页
参考文献第80-85页

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