旋转磁场辅助钛合金激光沉积制造技术研究
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-20页 |
1.1 激光沉积制造技术的应用 | 第12-14页 |
1.1.1 激光沉积制造技术的原理与特点 | 第12-13页 |
1.1.2 国内外研究进展 | 第13-14页 |
1.2 激光沉积制造面临的问题 | 第14-15页 |
1.3 激光沉积制造的计算机模拟 | 第15-16页 |
1.4 电磁搅拌技术 | 第16-17页 |
1.4.1 电磁搅拌技术原理及特点 | 第16-17页 |
1.4.2 国内外研究现状 | 第17页 |
1.5 课题的研究内容及意义 | 第17-20页 |
1.5.1 课题研究意义 | 第17-18页 |
1.5.2 课题的主要研究内容 | 第18-20页 |
第2章 电磁搅拌器的研制 | 第20-28页 |
2.1 电磁搅拌的作用机理 | 第20-22页 |
2.1.1 电磁搅拌技术的原理、特点 | 第20页 |
2.1.2 电磁搅拌技术的分类 | 第20-22页 |
2.2 电磁搅拌器的研制 | 第22-24页 |
2.2.1 电磁搅拌器的设计要求 | 第22页 |
2.2.2 电磁搅拌器的配置方案 | 第22-24页 |
2.3 电磁搅拌器中心磁场计算 | 第24-27页 |
2.4 本章小结 | 第27-28页 |
第3章 电磁搅拌器的特性研究 | 第28-36页 |
3.1 ANSYS软件简介 | 第28-29页 |
3.2 电磁场搅拌器模型建立 | 第29-31页 |
3.2.1 电磁搅拌器有限元模型建立 | 第29页 |
3.2.2 电磁搅拌器数学模型建立 | 第29-31页 |
3.3 模拟验证 | 第31-32页 |
3.3.1 模拟过程及参数 | 第31页 |
3.3.2 载荷施加及边界条件 | 第31-32页 |
3.4 模拟结果分析 | 第32-34页 |
3.5 本章小结 | 第34-36页 |
第4章 熔池流动场研究 | 第36-48页 |
4.1 CFD软件简介 | 第36-37页 |
4.2 熔凝数学模型建立 | 第37-41页 |
4.2.1 流场控制方程及边界条件 | 第37-39页 |
4.2.2 基材物理模型 | 第39页 |
4.2.3 热源模型 | 第39-41页 |
4.3 模拟过程及参数 | 第41页 |
4.4 旋转磁场对钛合金熔池的影响 | 第41-46页 |
4.4.1 温度场分布 | 第41-43页 |
4.4.2 熔池流场分布 | 第43-46页 |
4.5 本章小结 | 第46-48页 |
第5章 电磁搅拌试验研究 | 第48-54页 |
5.1 实验设备 | 第48页 |
5.2 实验材料与方法 | 第48-49页 |
5.3 试验结果分析 | 第49-52页 |
5.3.1 定点熔凝结果分析 | 第49-51页 |
5.3.2 单道熔凝试验分析 | 第51-52页 |
5.4 电磁搅拌对激光熔池影响机理讨论 | 第52页 |
5.5 结论 | 第52-54页 |
结论 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
攻读硕士期间发表(含录用)的学术论文 | 第60页 |