| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 薄膜的生长特点与研究方法 | 第10-14页 |
| 1.1.1 粒子的扩散过程 | 第10-11页 |
| 1.1.2 岛的迁移和表面粗化 | 第11页 |
| 1.1.3 薄膜的生长模式 | 第11-13页 |
| 1.1.4 薄膜生长的研究方法 | 第13-14页 |
| 1.2 动力学标度理论及其研究薄膜生长机制的最新进展 | 第14-23页 |
| 1.2.1 普适类介绍 | 第14-16页 |
| 1.2.2 常见生长模型介绍 | 第16-17页 |
| 1.2.3 动力学标度理论介绍 | 第17-20页 |
| 1.2.4 通过动力学标度理论研究薄膜生长机制的最新进展 | 第20-23页 |
| 1.3 IVB 族过渡金属氮化物的结构、性质与潜在应用 | 第23-24页 |
| 1.4 IVB 族过渡金属氮化物生长机制的研究现状 | 第24-27页 |
| 1.5 本论文的研究依据与主要内容 | 第27-30页 |
| 第二章 氮化铪薄膜的制备与表征 | 第30-34页 |
| 2.1 磁控溅射镀膜工作原理 | 第30-31页 |
| 2.2 样品的制备 | 第31-32页 |
| 2.3 薄膜的表征方法 | 第32-34页 |
| 第三章 岩盐相氮化铪薄膜生长机制的研究 | 第34-52页 |
| 3.1 薄膜的三阶段表面演变行为 | 第34-41页 |
| 3.1.1 薄膜表面演变行为 | 第34-36页 |
| 3.1.2 标度指数的计算 | 第36-39页 |
| 3.1.3 SEM 截面图 | 第39-41页 |
| 3.2 三阶段表面演变行为模拟 | 第41-49页 |
| 3.3 三阶段表面演变行为的解释 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 c-Hf_3N_4相氮化铪薄膜生长机制的研究 | 第52-66页 |
| 4.1 不同相结构的氮化铪薄膜表面形貌 | 第52-57页 |
| 4.2 标度指数的计算 | 第57-62页 |
| 4.3 生长机制的解释 | 第62-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-78页 |
| 拟发表学术论文情况 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
