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探究钢和黄铜表面氧化膜对发射率的影响

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-12页
    1.1 材料发射率的意义与现状第10-11页
    1.2 本文的研究方法和内容第11-12页
第二章 红外辐射基本理论及应用第12-19页
    2.1 经典辐射定律第12-16页
        2.1.1 热辐射第12-14页
        2.1.2 黑体辐射的经典定律第14-16页
    2.2 红外辐射的应用第16-19页
        2.2.1 光的基本知识第16-17页
        2.2.2 红外辐射基本应用第17-19页
第三章 测量材料发射率的实验装置及影响因素第19-29页
    3.1 测量发射率的实验装置第19-22页
        3.1.1 加热系统第19-20页
        3.1.2 信号检测及处理系统第20-21页
        3.1.3 控制与显示系统第21页
        3.1.4 实验操作第21-22页
    3.2 发射率的影响因素第22-29页
        3.2.1 样品本身对发射率的影响第22-23页
        3.2.2 温度对发射率的影响第23-24页
        3.2.3 表面条件对发射率的影响第24-25页
        3.2.4 测量环境的影响因素第25-26页
        3.2.5 金属材料表面的氧化反应对材料发射率的影响第26-29页
第四章 对氧化环境中DC01钢铁光谱发射率与温度的关系研究第29-37页
    4.1 引言第29-30页
    4.2 测量原理和实验装置第30-32页
        4.2.1 测量原理第30-32页
        4.2.2 实验装置第32页
    4.3 结果和讨论第32-35页
        4.3.1 加热时间对光谱发射率的影响第33-34页
        4.3.2 温度对光谱发射率的影响第34-35页
    4.4 本章小结第35-37页
第五章 对氧化环境中黄铜光谱发射率与温度的关系研究第37-43页
    5.1 引言第37-38页
    5.2 结果与讨论第38-42页
        5.2.1 加热时间对光谱发射率的影响第39-40页
        5.2.2 温度对光谱发射率的影响第40-42页
    5.3 本章小结第42-43页
第六章 对氧化环境中 316L钢光谱发射率与温度的关系研究第43-52页
    6.1 引言第43页
    6.2 结果和讨论第43-49页
        6.2.1 加热时间对光谱发射率的影响第44-47页
        6.2.2 温度对谱发射率的影响第47-49页
    6.3 本章小结第49-52页
第七章 结论与展望第52-54页
    7.1 结论第52页
    7.2 展望第52-54页
参考文献第54-59页
致谢第59-60页
攻读学位期间发表的学术论文目录第60-61页

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