| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第13-43页 |
| 1.1 纳米碳管／有机光电功能复合材料的研究进展 | 第13-22页 |
| 1.1.1 共混掺杂法 | 第15-17页 |
| 1.1.2 接枝法 | 第17-19页 |
| 1.1.3 填充法 | 第19-20页 |
| 1.1.4 包覆法 | 第20-21页 |
| 1.1.5 小结 | 第21-22页 |
| 1.2 纳米碳管用于红外探测的研究 | 第22-30页 |
| 1.2.1 光电导红外探测器的原理 | 第22页 |
| 1.2.2 制备光电导红外探测器的无机材料 | 第22-23页 |
| 1.2.3 纳米碳管与红外探测 | 第23-28页 |
| 1.2.3.1 具有可调能带的纳米碳管 | 第23-24页 |
| 1.2.3.2 有序纳米碳管阵列及其制备 | 第24-25页 |
| 1.2.3.3 与红外探测相关的电子和结构特性 | 第25-26页 |
| 1.2.3.4 纳米碳管阵列用于红外探测的探索 | 第26-28页 |
| 1.2.4 可用于红外探测的稀土酞菁／纳米碳管复合材料 | 第28-30页 |
| 1.2.4.1 近红外响应有机光敏材料 | 第28页 |
| 1.2.4.2 有机半导体材料中的光致电荷转移 | 第28-30页 |
| 1.2.4.3 纳米碳管／有机半导体复合材料体系的光致电荷转移 | 第30页 |
| 1.3 电化学沉积在制备半导体纳米线、薄膜中的应用 | 第30-34页 |
| 1.3.1 制备半导体纳米线、薄膜的方法 | 第30-31页 |
| 1.3.2 电化学沉积制备半导体纳米线、薄膜的研究进展 | 第31-34页 |
| 1.3.2.1 电化学沉积制备导电聚合物纳米线、薄膜 | 第32-34页 |
| 1.3.2.2 电化学沉积制备纳米碳管薄膜 | 第34页 |
| 1.4 课题的提出及其意义 | 第34-36页 |
| 1.4.1 课题的提出 | 第34-35页 |
| 1.4.2 课题的意义 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-43页 |
| 第二章 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料光电导性能的研究 | 第43-58页 |
| 2.1 纳米碳管的化学修饰 | 第43-47页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第43-44页 |
| 2.1.2 纳米碳管的化学修饰 | 第44页 |
| 2.1.3 纳米碳管化学修饰产物的表征 | 第44-45页 |
| 2.1.4 纳米碳管与聚合物的相容性和在有机溶剂中的分散性 | 第45-47页 |
| 2.2 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的制备与光电导性能研究 | 第47-54页 |
| 2.2.1 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的制备 | 第47页 |
| 2.2.2 双层感光体的制备与光电导性能测试 | 第47-48页 |
| 2.2.3 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的光电导性能研究 | 第48-54页 |
| 2.2.3.1 复合材料的光敏性 | 第48-50页 |
| 2.2.3.2 复合材料的吸收光谱 | 第50-51页 |
| 2.2.3.3 复合材料的XPS光电子能谱研究 | 第51-52页 |
| 2.2.3.4 酞菁光电导过程中的分子内电荷转移 | 第52-53页 |
| 2.2.3.5 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料分子间的光致电荷转移 | 第53-54页 |
| 2.3 本章结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第三章 纳米碳管／稀土酞菁一维有序复合物的制备与性能研究 | 第58-83页 |
| 3.1 稀土酞菁的合成与表征 | 第58-64页 |
| 3.1.1 稀土酞菁的合成 | 第58-61页 |
| 3.1.1.1 无水氯化物的制备 | 第59页 |
| 3.1.1.2 稀土酞菁的合成 | 第59-60页 |
| 3.1.1.3 产物的纯化 | 第60-61页 |
| 3.1.2 稀土酞菁的表征 | 第61-63页 |
| 3.1.2.1 元素分析 | 第61页 |
| 3.1.2.2 FTIR表征 | 第61-62页 |
| 3.1.2.3 Uv-Vis表征 | 第62-63页 |
| 3.1.2.4 NIR表征 | 第63页 |
| 小结 | 第63-64页 |
| 3.2 毛细管浸润填充法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第64-71页 |
| 3.2.1 纳米碳管的润湿、填充机理 | 第64-65页 |
| 3.2.2 毛细管浸润填充法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第65-70页 |
| 3.2.2.1 由填充时间控制纳米碳管中酞菁铒的形态 | 第65-67页 |
| 3.2.2.2 由纳米碳管模板控制酞菁铒的形态 | 第67-68页 |
| 3.2.2.3 纳米碳管／酞菁铒一维杂化材料的FTIR表征 | 第68-69页 |
| 3.2.2.4 酞菁铒填充纳米碳管的XRD表征 | 第69-70页 |
| 3.2.3 纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物的近红外光敏性研究 | 第70-71页 |
| 3.3 相分离法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第71-79页 |
| 3.3.1 纳米碳管为模板自组装制备酞菁铒纳米线与表征 | 第71-74页 |
| 3.3.1.1 透射电镜表征 | 第72-73页 |
| 3.3.1.2 XRD表征 | 第73-74页 |
| 3.3.2 纳米碳管／酞菁铒杂化纳米线的光电导性能 | 第74-76页 |
| 3.3.3 纳米碳管与酞菁铒间的电子相互作用 | 第76-79页 |
| 3.4 本章结论 | 第79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 第四章 真空蒸镀制备稀土酞菁薄膜的聚集态结构与光敏性研究 | 第83-97页 |
| 4.1 稀土酞菁薄膜的制备 | 第83页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第83-94页 |
| 4.2.1 稀土酞菁薄膜的表面形貌 | 第83-88页 |
| 4.2.1.1 薄膜厚度的影响 | 第83-86页 |
| 4.2.1.2 基片温度的影响 | 第86-88页 |
| 4.2.2 稀土酞菁薄膜的聚集态结构 | 第88-91页 |
| 4.2.2.1 薄膜的XRD表征 | 第88-90页 |
| 4.2.2.2 薄膜中稀土酞菁分子的排列方式 | 第90-91页 |
| 4.2.3 稀土酞菁的光敏性 | 第91-94页 |
| 4.2.3.1 Uv-Vis吸收光谱 | 第91-93页 |
| 4.2.3.2 NIR吸收光谱 | 第93-94页 |
| 4.3 本章结论 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第五章 电泳沉积制备稀土酞菁与纳米碳管薄膜 | 第97-138页 |
| 5.1 电泳沉积制备稀土酞菁薄膜 | 第97-121页 |
| 5.1.1 稀土酞菁的电泳沉积过程 | 第97-98页 |
| 5.1.1.1 溶液的配制 | 第97-98页 |
| 5.1.1.2 电极的清洗 | 第98页 |
| 5.1.1.3 电泳沉积 | 第98页 |
| 5.1.2 稀土酞菁电泳沉积的机理 | 第98-102页 |
| 5.1.2.1 稀土酞菁的可逆质子化、去质子化过程 | 第99-100页 |
| 5.1.2.2 紫外-可见光谱分析 | 第100-101页 |
| 5.1.2.3 循环伏安表征 | 第101-102页 |
| 5.1.3 影响稀土酞菁薄膜形态的因素和调控方法 | 第102-112页 |
| 5.1.3.1 沉积时间 | 第103-105页 |
| 5.1.3.2 电场强度 | 第105-107页 |
| 5.1.3.3 溶液浓度 | 第107-108页 |
| 5.1.3.4 外场一磁场的影响 | 第108-110页 |
| 5.1.3.5 硅基上的电泳沉积 | 第110-112页 |
| 5.1.4 电泳沉积稀土酞菁薄膜的成核机理 | 第112-114页 |
| 5.1.5 稀土酞菁薄膜的光敏性研究 | 第114-115页 |
| 5.1.6 稀土酞菁薄膜的聚集态结构 | 第115-121页 |
| 5.1.6.1 XRD表征 | 第115-118页 |
| 5.1.6.2 从激子模型来分析稀土酞菁分子的聚集态结构 | 第118-121页 |
| 5.2 稀土酞菁光电功能薄膜的应用 | 第121-127页 |
| 5.2.1 稀土酞菁／苝四酸酐P-N结复合膜的光伏性质 | 第121-125页 |
| 5.2.1.1 有机／聚合物P-N结太阳能电池 | 第121-122页 |
| 5.2.2.2 稀土酞菁／苝四酸酐P-N结太阳能电池 | 第122-125页 |
| 5.2.2 稀土酞菁薄膜的电致变色性质 | 第125-127页 |
| 5.3 电泳沉积制备纳米碳管薄膜及其与稀土酞菁的复合膜 | 第127-132页 |
| 5.3.1 纳米碳管薄膜的制备 | 第127-129页 |
| 5.3.2 纳米碳管／稀土酞菁复合薄膜的制备 | 第129-131页 |
| 5.3.3 纳米碳管／稀土酞菁复合薄膜的近红外光敏性 | 第131-132页 |
| 5.4 本章结论 | 第132页 |
| 参考文献 | 第132-138页 |
| 第六章 主要结论与创新点 | 第138-140页 |
| 附录 | 第140-146页 |
| 攻读博士学位期间取得的科研成果 | 第146-148页 |
| 致谢 | 第148页 |
