| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 前言 | 第11-26页 |
| 1.1 LED简介 | 第11-13页 |
| 1.1.1 LED的结构与应用 | 第11-12页 |
| 1.1.2 LED的行业现状 | 第12-13页 |
| 1.2 白光LED用YAG荧光粉 | 第13-18页 |
| 1.2.1 YAG的结构与性能 | 第13-14页 |
| 1.2.2 YAG荧光粉的合成方法 | 第14-17页 |
| 1.2.3 YAG荧光粉的封装方式 | 第17-18页 |
| 1.3 白光LED用YAG荧光薄膜 | 第18-24页 |
| 1.3.1 纳米薄膜的生长机理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 荧光薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| 1.3.3 PLD法镀膜影响因素 | 第22-23页 |
| 1.3.4 YAG薄膜的封装方式 | 第23-24页 |
| 1.4 论文的选题目的、研究内容和创新点 | 第24-26页 |
| 1.4.1 选题目的 | 第24页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 1.4.3 创新点 | 第25-26页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第26-33页 |
| 2.1 实验试剂与实验仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第26页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第26-27页 |
| 2.2 实验方法与流程 | 第27-29页 |
| 2.2.1 稀土掺杂YAG荧光粉的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.2 稀土掺杂YAG靶材的制备 | 第28-29页 |
| 2.2.3 稀土掺杂YAG薄膜的制备 | 第29页 |
| 2.3 测试与表征 | 第29-33页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第29页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3.3 EDX能谱分析 | 第30页 |
| 2.3.4 TG-DTA热重分析 | 第30页 |
| 2.3.5 荧光光谱与荧光寿命分析 | 第30页 |
| 2.3.6 透过率测试 | 第30页 |
| 2.3.7 红外光谱分析 | 第30页 |
| 2.3.8 纳米激光粒度分析 | 第30-31页 |
| 2.3.9 X射线光电子能谱分析 | 第31页 |
| 2.3.10 原子力显微镜 | 第31页 |
| 2.3.11 膜厚测试分析 | 第31页 |
| 2.3.12 排水法测密度 | 第31-32页 |
| 2.3.13 CIE色坐标测试 | 第32-33页 |
| 第3章 制备Ce:YAG荧光粉及靶材的结果与分析 | 第33-58页 |
| 3.1 制备Ce:YAG荧光粉的结果与分析 | 第33-52页 |
| 3.1.1 引言 | 第33页 |
| 3.1.2 实验方案 | 第33-34页 |
| 3.1.3 前驱体预烧温度的选择 | 第34-35页 |
| 3.1.4 不同共沉淀条件下合成的荧光粉对比分析 | 第35-38页 |
| 3.1.4.1 物相分析 | 第35-36页 |
| 3.1.4.2 形貌分析 | 第36页 |
| 3.1.4.3 荧光分析 | 第36-37页 |
| 3.1.4.4 粒度分析 | 第37-38页 |
| 3.1.5 超声共沉淀复合熔盐法合成荧光粉的工艺优化 | 第38-51页 |
| 3.1.5.1 超声频率的影响 | 第38-40页 |
| 3.1.5.2 超声时间的影响 | 第40-43页 |
| 3.1.5.3 煅烧温度的影响 | 第43-45页 |
| 3.1.5.4 保温时间的影响 | 第45-47页 |
| 3.1.5.5 熔盐种类的影响 | 第47-49页 |
| 3.1.5.6 熔盐配比的影响 | 第49-51页 |
| 3.1.6 本节小结 | 第51-52页 |
| 3.2 手动压片法制备Ce:YAG靶材的结果与分析 | 第52-58页 |
| 3.2.1 引言 | 第52-53页 |
| 3.2.2 实验方案 | 第53页 |
| 3.2.3 制备Ce:YAG靶材的结果与分析 | 第53-57页 |
| 3.2.3.1 冷静压压力的影响 | 第53-54页 |
| 3.2.3.2 煅烧温度的影响 | 第54-57页 |
| 3.2.4 本节小结 | 第57-58页 |
| 第4章 PLD法制备稀土掺杂YAG荧光薄膜的结果和讨论 | 第58-86页 |
| 4.1 制备Ce:YAG荧光薄膜的结果和讨论 | 第58-78页 |
| 4.1.1 引言 | 第58页 |
| 4.1.2 实验方案 | 第58页 |
| 4.1.3 镀膜条件的影响 | 第58-69页 |
| 4.1.3.1 基底温度的影响 | 第58-61页 |
| 4.1.3.2 镀膜时间的影响 | 第61-64页 |
| 4.1.3.3 镀膜气氛的影响 | 第64-66页 |
| 4.1.3.4 靶基距的影响 | 第66-67页 |
| 4.1.3.5 单脉冲能量的影响 | 第67-69页 |
| 4.1.4 退火条件的影响 | 第69-77页 |
| 4.1.4.1 退火温度的影响 | 第69-73页 |
| 4.1.4.2 退火时间的影响 | 第73-75页 |
| 4.1.4.3 退火气氛的影响 | 第75-77页 |
| 4.1.5 本节小结 | 第77-78页 |
| 4.2 制备Ce、Pr(Gd):YAG荧光薄膜的结果和讨论 | 第78-86页 |
| 4.2.1 引言 | 第78页 |
| 4.2.2 实验方案 | 第78页 |
| 4.2.3 Ce、Pr(Gd):YAG荧光薄膜的表征与测试 | 第78-85页 |
| 4.2.3.1 物相分析 | 第78-79页 |
| 4.2.3.2 形貌分析 | 第79-80页 |
| 4.2.3.3 透过率分析 | 第80-81页 |
| 4.2.3.4 红外光谱分析 | 第81页 |
| 4.2.3.5 荧光性能分析 | 第81-84页 |
| 4.2.3.6 色坐标分析 | 第84-85页 |
| 4.2.4 本节小结 | 第85-86页 |
| 第5章 总结与展望 | 第86-88页 |
| 5.1 总结 | 第86-87页 |
| 5.2 展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第93页 |
