| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-27页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 钙钛矿锰氧化物 | 第9-23页 |
| 1.2.1 晶体结构 | 第9-12页 |
| 1.2.2 钙钛矿锰氧化物中的磁电阻效应 | 第12-16页 |
| 1.2.3 钙钛矿锰氧化物中的电致阻变效应 | 第16-18页 |
| 1.2.4 钙钛矿锰氧化物的相图及相分离 | 第18-21页 |
| 1.2.5 钙钛矿锰氧化物的应力效应 | 第21-23页 |
| 1.3 Pr_(0.5)Sr_(0.5)MnO_3薄膜 | 第23-27页 |
| 2 Pr_(0.5)S_(0.5)MnO_3薄膜的制备与表征 | 第27-34页 |
| 2.1 Pr_(0.5)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的制备 | 第27-31页 |
| 2.1.1 PLD原理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 PLD优缺点及改进 | 第28页 |
| 2.1.3 薄膜制备工艺 | 第28-31页 |
| 2.2 Pr_(0.5)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的表征 | 第31-34页 |
| 2.2.1 XRD对薄膜结构相图的表征 | 第31-32页 |
| 2.2.2 PPMS表征电学性能 | 第32-33页 |
| 2.2.3 SQUID测试磁化强度 | 第33-34页 |
| 3 应力对PSMO薄膜性能的影响研究 | 第34-54页 |
| 3.1 不同厚度PSMO薄膜的研究 | 第34-47页 |
| 3.1.1 实验 | 第34-35页 |
| 3.1.2 实验结果和分析 | 第35-46页 |
| 3.1.3 小结 | 第46-47页 |
| 3.2 后退火对PSMO薄膜性能的影响 | 第47-54页 |
| 3.2.1 后退火实验 | 第47页 |
| 3.2.2 实验结果和分析 | 第47-52页 |
| 3.2.3 小结 | 第52-54页 |
| 4 总结与展望 | 第54-55页 |
| 4.1 主要结论 | 第54页 |
| 4.2 研究展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
