| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 目次 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| ·集成光学发展状况 | 第13-15页 |
| ·光波导材料的发展 | 第15-18页 |
| ·可见光波导材料 | 第18-20页 |
| ·SU-8聚合物光波导 | 第18-19页 |
| ·硅基二氧化硅悬挂式光波导 | 第19-20页 |
| ·论文的章节安排 | 第20-21页 |
| 第二章 光波导概述 | 第21-32页 |
| ·波动方程 | 第21-25页 |
| ·TE模 | 第23-24页 |
| ·TM模 | 第24-25页 |
| ·有限差分方法 | 第25-29页 |
| ·光束传播方法 | 第29-32页 |
| 第三章 集成光子器件制作工艺及测试平台 | 第32-42页 |
| ·整体工艺流程简介 | 第32-33页 |
| ·薄膜沉积 | 第33-37页 |
| ·等离子增强化学气相沉积(PECVD) | 第33-36页 |
| ·高温氧化 | 第36-37页 |
| ·光刻及显影 | 第37-38页 |
| ·刻蚀 | 第38-40页 |
| ·干法刻蚀系统 | 第38-40页 |
| ·湿法腐蚀 | 第40页 |
| ·集成光子器件测试系统 | 第40-42页 |
| 第四章 基于SU-8聚合物平面光波导滤波器的设计 | 第42-67页 |
| ·聚合物平面光波导概况 | 第42-43页 |
| ·阵列波导光栅概述 | 第43-47页 |
| ·MMI-AWG的意义 | 第47页 |
| ·SU-8聚合物平面光波导器件的制作流程 | 第47-48页 |
| ·MMI-AWG的设计 | 第48-56页 |
| ·波导结构的设计 | 第49页 |
| ·MMI耦合器的设计 | 第49-51页 |
| ·阵列波导的设计 | 第51-56页 |
| ·MMI-AWG的制作 | 第56-63页 |
| ·掩模板的制作 | 第56-58页 |
| ·SU-8光刻胶的配制 | 第58-59页 |
| ·MMI-AWG的制作 | 第59-63页 |
| ·MMI-AWG的频谱响应测试 | 第63-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第五章:二氧化硅悬挂式波导的设计与制作 | 第67-85页 |
| ·背景陈述 | 第67-73页 |
| ·结构与设计 | 第73-78页 |
| ·单模条件以及弯曲损耗的计算 | 第74-77页 |
| ·腐蚀沟槽的深度选择 | 第77页 |
| ·小孔距离的优化设计 | 第77-78页 |
| ·二氧化硅悬挂式波导的制作 | 第78-82页 |
| ·二氧化硅膜层的生长 | 第78-79页 |
| ·脊型波导的制作 | 第79页 |
| ·硅衬底的湿法腐蚀 | 第79-82页 |
| ·二氧化硅悬挂式波导的性能测试 | 第82-83页 |
| ·小结 | 第83-85页 |
| 第六章 硅基金属-半导体-金属型光电探测器的设计与制作 | 第85-91页 |
| ·金属-半导体-金属(MSM)光电探测器的发展和特点 | 第85-86页 |
| ·MSM光电探测器的电极设计 | 第86-87页 |
| ·MSM光电探测器的制作 | 第87-89页 |
| ·MSM光电探测器的简单测试 | 第89-90页 |
| ·小结 | 第90-91页 |
| 第七章 总结 | 第91-92页 |
| 在读硕士期间发表的论文 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-97页 |