带形纳米压印光刻机的研究与开发
| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第14-16页 |
| ·纳米压印光刻技术的基本原理 | 第16-18页 |
| ·大面积纳米压印光刻技术国内外研究现状 | 第18-28页 |
| ·平压平纳米压印工艺 | 第18-22页 |
| ·滚对滚纳米压印工艺 | 第22-25页 |
| ·滚压平纳米压印工艺 | 第25-27页 |
| ·带型纳米压印工艺 | 第27-28页 |
| ·课题来源 | 第28页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第28-30页 |
| ·带型纳米压印光刻机的总体分析 | 第29页 |
| ·带型纳米压印填充机理的研究 | 第29页 |
| ·带型软模具的分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第2章 带型纳米压印光刻机的总体设计及三维建模 | 第31-46页 |
| ·带型纳米压印光刻机基本原理 | 第31-33页 |
| ·带型纳米光刻机主要功能模块 | 第33-38页 |
| ·带型软模具 | 第33-34页 |
| ·工作台 | 第34-35页 |
| ·涂布模块 | 第35-37页 |
| ·曝光装置 | 第37页 |
| ·模具清理装置 | 第37-38页 |
| ·压印模块 | 第38-40页 |
| ·机架的设计 | 第40-44页 |
| ·机架应满足的基本要求 | 第40-41页 |
| ·机架的强度 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 带型纳米压印聚合物填充机理和数值模拟 | 第46-62页 |
| ·理论模型 | 第46-47页 |
| ·带形纳米压印 | 第46-47页 |
| ·初始填充过程建模 | 第47-50页 |
| ·完全填充和残留层减薄建模 | 第50-53页 |
| ·完全填充的时间 | 第50-52页 |
| ·残留层减薄阶段 | 第52-53页 |
| ·数值模拟 | 第53-55页 |
| ·建立有限元模型 | 第53-54页 |
| ·初始填充过程模拟 | 第54-55页 |
| ·完全填充阶段聚合物流变填充的影响因素和规律 | 第55-60页 |
| ·压印力 | 第55-57页 |
| ·初始留膜厚度 | 第57页 |
| ·模具几何参数 | 第57-60页 |
| ·结论 | 第60-62页 |
| 第4章 带型模具的设计制造与优化 | 第62-75页 |
| ·软模具的性能 | 第62-65页 |
| ·软模具的优势 | 第62-64页 |
| ·带型软模具的结构 | 第64-65页 |
| ·软模具的制作方法 | 第65-66页 |
| ·模具母模板的制备 | 第66-70页 |
| ·滚轮模具的制备 | 第66-69页 |
| ·平板模具的制备 | 第69-70页 |
| ·带型软膜具的制作 | 第70-73页 |
| ·有接缝带型软模具的制作 | 第70-71页 |
| ·无接缝带型软模具的制作 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 结论与展望 | 第75-78页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
