| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-38页 |
| ·交换偏置 | 第16-25页 |
| ·交换偏置的物理图像 | 第16-17页 |
| ·交换偏置的影响因素 | 第17-20页 |
| ·交换偏置的热稳定性 | 第20-23页 |
| ·几种经典的交换偏置理论模型 | 第23-25页 |
| ·磁性隧道结多层膜及其相关理论 | 第25-28页 |
| ·磁性隧道结的基本结构 | 第25-27页 |
| ·自旋相关隧穿理论 | 第27-28页 |
| ·新型磁性功能薄膜材料 | 第28-33页 |
| ·NiMn 基磁驱动形状记忆合金 | 第28-30页 |
| ·BiFeO_3多铁性材料 | 第30-33页 |
| ·基于磁性薄膜/多层膜微器件的加工技术 | 第33-36页 |
| ·几种常见的微器件加工方法 | 第33-34页 |
| ·聚焦离子束微加工技术 | 第34-35页 |
| ·聚焦离子束技术制备微器件存在的问题 | 第35-36页 |
| ·本文研究的主要内容、目的和意义 | 第36-38页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第36-37页 |
| ·本文研究的目的和意义 | 第37-38页 |
| 第二章 薄膜样品的制备与表征 | 第38-47页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第38-39页 |
| ·基片的准备及清洗 | 第38页 |
| ·PVD 溅射镀膜技术 | 第38-39页 |
| ·薄膜样品的磁场热处理及离子辐照 | 第39页 |
| ·磁场热处理 | 第39页 |
| ·离子辐照处理 | 第39页 |
| ·薄膜样品的结构表征 | 第39-44页 |
| ·X 射线分析技术 | 第39-42页 |
| ·原子力显微镜 | 第42页 |
| ·薄膜截面透射电镜样品的制备及观察 | 第42-44页 |
| ·薄膜样品的磁性能表征 | 第44-46页 |
| ·振动样品磁强计 | 第44页 |
| ·磁滞回线分析七点模型 | 第44-45页 |
| ·热磁稳定性的测试 | 第45-46页 |
| ·SRIM 软件及仿真 | 第46-47页 |
| 第三章 磁性隧道结中的交换偏置及其热稳定性 | 第47-65页 |
| ·基于 IrMn/CoFe 的磁性隧道结的制备与结构 | 第47-51页 |
| ·IrMn/CoFe/AlO_x/CoFe 磁性隧道结的制备 | 第47-48页 |
| ·磁场退火处理 | 第48页 |
| ·IrMn/CoFe/AlO_x/CoFe 磁性隧道结的结构 | 第48-51页 |
| ·磁性隧道结的磁性能 | 第51-64页 |
| ·磁场退火对磁性隧道结磁性能的影响 | 第51-52页 |
| ·磁性隧道结的磁各向异性 | 第52-53页 |
| ·磁性隧道结中的交换偏置及其热稳定性 | 第53-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 Ga~+离子辐照对磁性隧道结中交换偏置热稳定性的影响 | 第65-84页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结微结构的影响 | 第65-75页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结微观结构的影响 | 第65-67页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结表面粗糙度和界面粗糙度的影响 | 第67-71页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结及其中界面处化学元素分布的影响 | 第71-75页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结磁性能及交换偏置热稳定性的影响 | 第75-83页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结磁性能的影响 | 第75-79页 |
| ·Ga~+离子辐照对磁性隧道结交换偏置热稳定性的影响 | 第79-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第五章 NiFe/BiFeO_3双层膜中的交换偏置及其热稳定性 | 第84-96页 |
| ·BiFeO_3外延薄膜的制备、结构与磁性能 | 第84-87页 |
| ·BiFeO_3外延薄膜的生长 | 第84-85页 |
| ·BiFeO_3外延薄膜的微结构 | 第85-86页 |
| ·BiFeO_3外延薄膜的磁性能 | 第86-87页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜的制备与结构 | 第87-89页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜的制备 | 第87-88页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜的结构 | 第88-89页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜的磁性能 | 第89-95页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜的磁各向异性 | 第89-90页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜中的交换偏置热稳定性 | 第90-94页 |
| ·BiFeO_3/NiFe 双层膜中的交换偏置热稳定性作用机理 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第六章 Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁性薄膜中的交换偏置及其热稳定性 | 第96-110页 |
| ·Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜的制备、结构与磁性能 | 第96-104页 |
| ·Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜的制备 | 第96-97页 |
| ·Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜的结构 | 第97-99页 |
| ·Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜的磁性能 | 第99-104页 |
| ·Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜中的交换偏置及其热稳定性 | 第104-109页 |
| ·场冷后的 Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜中的交换偏置 | 第104页 |
| ·场冷后的 Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜交换偏置机理分析 | 第104-106页 |
| ·场冷后的 Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜交换偏置热稳定性 | 第106-109页 |
| ·本章小结 | 第109-110页 |
| 第七章 结论 | 第110-113页 |
| ·主要结论 | 第110-111页 |
| ·主要创新点 | 第111页 |
| ·展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第129-130页 |
