混合型波分复用系统中薄膜滤光片的研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·引言 | 第11-12页 |
·离子束溅射技术的发展 | 第12-13页 |
·波分复用技术的发展 | 第13-19页 |
·光网络复用技术简介 | 第13-17页 |
·波分复用系统主要形式 | 第17页 |
·波分复用系统在传输网中的定位 | 第17-18页 |
·混合型波分复用系统简介 | 第18-19页 |
·混合型波分复用系统中的薄膜滤光片 | 第19-21页 |
·本论文主要研究内容 | 第21-22页 |
·小结 | 第22-23页 |
第二章 合金靶的离子束溅射特性解析 | 第23-42页 |
·离子束溅射参量的表征 | 第23-25页 |
·合金靶溅射特性的理论分析 | 第25-31页 |
·溅射合金靶面成分的稳定时间条件 | 第26-27页 |
·表面原子结合能模型 | 第27-28页 |
·合金成分的选择性溅射现象及分析 | 第28-31页 |
·离子束溅射沉积化合物薄膜主要方式 | 第31-32页 |
·离子束反应溅射沉积过程的基本方式 | 第32-34页 |
·不同离子束反应溅射沉积薄膜生长机理 | 第32-33页 |
·反应气体与材料的作用形式 | 第33-34页 |
·离子束反应溅射沉积化合物薄膜的表征 | 第34-40页 |
·透射光谱特性分析 | 第34-35页 |
·X射线衍射(XRD)分析 | 第35页 |
·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第35-37页 |
·原子力显微镜(AFM)分析 | 第37-38页 |
·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第38-39页 |
·薄膜应力分析 | 第39-40页 |
·小结 | 第40-42页 |
第三章 复合薄膜的沉积特性研究 | 第42-64页 |
·实验设备 | 第42-46页 |
·真空系统 | 第42-44页 |
·溅射系统 | 第44-46页 |
·膜厚控制系统 | 第46页 |
·复合薄膜性质的表征 | 第46-49页 |
·离子源气体充入方式研究 | 第49-51页 |
·不同辅助源参数沉积薄膜特性研究 | 第51-58页 |
·薄膜的光学特性研究 | 第51-55页 |
·薄膜的表面形貌研究 | 第55-56页 |
·薄膜的应力研究 | 第56-58页 |
·薄膜厚度的均匀性修正研究 | 第58-59页 |
·正交矩阵实验研究 | 第59-63页 |
·正交矩阵实验的基本原理 | 第59-61页 |
·正交矩阵实验流程 | 第61-63页 |
·小结 | 第63-64页 |
第四章 低损耗稀疏波分复用窄带滤光片的研制 | 第64-82页 |
·低损耗稀疏波分复用滤光片技术指标 | 第64-66页 |
·低损耗稀疏波分复用滤光片的膜系设计 | 第66-74页 |
·法布里珀罗滤光片基本结构 | 第66-68页 |
·多腔法布里珀罗滤光片设计原理 | 第68-70页 |
·低损耗稀疏波分复用滤光片寻优设计 | 第70-72页 |
·短波截止带的展宽设计 | 第72-73页 |
·匹配层的优化设计 | 第73页 |
·背面增透膜的设计 | 第73-74页 |
·薄膜厚度监控技术研究 | 第74-76页 |
·极值法监控曲线分析 | 第75页 |
·导纳轨迹图分析 | 第75-76页 |
·低损耗稀疏波分复用滤光片的制备 | 第76-77页 |
·低损耗稀疏波分复用滤光片测试 | 第77-80页 |
·稀疏波分复用滤光片测试系统简介 | 第77-79页 |
·稀疏波分复用滤光片透射光谱测试 | 第79-80页 |
·稀疏波分复用滤光片使用环境测试 | 第80页 |
·小结 | 第80-82页 |
第五章 增益平坦滤光片的研制 | 第82-94页 |
·增益平坦滤光片的技术指标 | 第82-83页 |
·增益平坦滤光片的膜系设计 | 第83-85页 |
·薄膜沉积速率的精确标定 | 第85-89页 |
·增益平坦滤光片膜层敏感度研究 | 第86页 |
·多层膜沉积速率随机误差研究 | 第86-88页 |
·沉积速率标定实验及结果 | 第88-89页 |
·增益平坦滤光片的制备 | 第89-91页 |
·增益平坦滤光片的测试 | 第91-93页 |
·增益平坦滤光片测试系统简介 | 第91页 |
·增益平坦滤光片透射光谱测试 | 第91-92页 |
·增益平坦滤光片使用环境测试 | 第92-93页 |
·小结 | 第93-94页 |
结论 | 第94-96页 |
致谢 | 第96-97页 |
参考文献 | 第97-101页 |
攻读博士学位期间的学术成果 | 第101-102页 |
作者简介 | 第102页 |