| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·研究背景及现状 | 第7-9页 |
| ·课题研究主要内容及难点 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜的基本理论 | 第11-17页 |
| ·薄膜的干涉 | 第11-12页 |
| ·单层增透膜的反射率 | 第12-14页 |
| ·多层增透膜的反射率 | 第14-17页 |
| 第三章 膜料的选取 | 第17-24页 |
| ·基底的选择 | 第17-19页 |
| ·膜料的选择 | 第19-24页 |
| 第四章 膜系设计 | 第24-30页 |
| ·减反射膜设计原理 | 第24-27页 |
| ·增透膜系的优化 | 第27-30页 |
| 第五章 增透膜的制备 | 第30-38页 |
| ·真空 | 第30页 |
| ·镀膜设备 | 第30-34页 |
| ·工艺因素的影响 | 第34-36页 |
| ·制备增透膜的工艺流程 | 第36-38页 |
| 第六章 类金刚石保护膜的制备 | 第38-43页 |
| ·过渡层的制备 | 第38页 |
| ·RF-PECVD简介 | 第38-39页 |
| ·DLC膜的制备 | 第39-43页 |
| 第七章 测试结果与分析 | 第43-48页 |
| 第八章 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |