摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-11页 |
·引言 | 第7页 |
·研究背景及现状 | 第7-9页 |
·课题研究主要内容及难点 | 第9-11页 |
第二章 薄膜的基本理论 | 第11-17页 |
·薄膜的干涉 | 第11-12页 |
·单层增透膜的反射率 | 第12-14页 |
·多层增透膜的反射率 | 第14-17页 |
第三章 膜料的选取 | 第17-24页 |
·基底的选择 | 第17-19页 |
·膜料的选择 | 第19-24页 |
第四章 膜系设计 | 第24-30页 |
·减反射膜设计原理 | 第24-27页 |
·增透膜系的优化 | 第27-30页 |
第五章 增透膜的制备 | 第30-38页 |
·真空 | 第30页 |
·镀膜设备 | 第30-34页 |
·工艺因素的影响 | 第34-36页 |
·制备增透膜的工艺流程 | 第36-38页 |
第六章 类金刚石保护膜的制备 | 第38-43页 |
·过渡层的制备 | 第38页 |
·RF-PECVD简介 | 第38-39页 |
·DLC膜的制备 | 第39-43页 |
第七章 测试结果与分析 | 第43-48页 |
第八章 结论 | 第48-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-51页 |