首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文--薄膜的生长、结构和外延论文

氟化镁基底3~5μm红外增透保护膜的研究与制备

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·引言第7页
   ·研究背景及现状第7-9页
   ·课题研究主要内容及难点第9-11页
第二章 薄膜的基本理论第11-17页
   ·薄膜的干涉第11-12页
   ·单层增透膜的反射率第12-14页
   ·多层增透膜的反射率第14-17页
第三章 膜料的选取第17-24页
   ·基底的选择第17-19页
   ·膜料的选择第19-24页
第四章 膜系设计第24-30页
   ·减反射膜设计原理第24-27页
   ·增透膜系的优化第27-30页
第五章 增透膜的制备第30-38页
   ·真空第30页
   ·镀膜设备第30-34页
   ·工艺因素的影响第34-36页
   ·制备增透膜的工艺流程第36-38页
第六章 类金刚石保护膜的制备第38-43页
   ·过渡层的制备第38页
   ·RF-PECVD简介第38-39页
   ·DLC膜的制备第39-43页
第七章 测试结果与分析第43-48页
第八章 结论第48-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-51页

论文共51页,点击 下载论文
上一篇:基于8~11μm红外窗口系统中减反射与保护膜的研制
下一篇:应用于联合变换相关器傅里叶变换镜头设计