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过渡金属氧化物薄膜电磁性质的应变调控

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-65页
   ·引言第11页
   ·钙钛矿锰氧化物基本结构及磁电物理机制第11-18页
     ·钙钛矿锰氧化物研究历史第11-13页
     ·钙钛矿锰氧化物晶体结构第13-16页
     ·钙钛矿锰氧化物的主要磁电机制第16-18页
   ·钙钛矿锰氧化物薄膜电磁性质的应变调控第18-42页
     ·钙钛矿锰氧化物相图第19-21页
     ·钙钛矿锰氧化物相分离第21-26页
     ·钙钛矿锰氧化物相分离的理论模型第26-28页
     ·静态应变调控锰氧化物外延薄膜相分离及电磁特性第28-35页
     ·原位动态应变对锰氧化物电磁性质的调控第35-42页
   ·锰氧化物薄膜电磁各向异性第42-56页
     ·锰氧化物外延薄膜中的磁各向异性第42-48页
     ·锰氧化物外延薄膜中的各向异性电阻第48-52页
     ·锰氧化物外延薄膜中的各向异性磁阻第52-56页
   ·存在的问题第56-58页
 参考文献第58-65页
第二章 关键实验技术与方法第65-83页
   ·引言第65页
   ·薄膜制备技术第65-69页
     ·磁控溅射第65-67页
     ·脉冲激光沉积(PLD)第67-69页
     ·化学气相沉积(CVD)第69页
   ·薄膜样品结构表征第69-78页
     ·X射线衍射(XRD)第69-72页
     ·X射线倒易空间点阵及倒易图分析第72-74页
     ·外延膜的形貌表征:原子力显微镜(AFM)第74-75页
     ·铁电材料的表征:压电力显微镜(PFM)第75-76页
     ·磁性薄膜磁畴的直接观测:磁力显微镜(MFM)第76-78页
   ·薄膜样品磁电性质测量第78-80页
     ·低温输运测量系统第78-79页
     ·磁性测量(SQUID-VSM)第79-80页
     ·测量仪器的联用及Labview编程控制第80页
   ·本章小结第80-82页
 参考文献第82-83页
第三章 La_(0.325)Pr_(0.3)Ca_(0.375)MnO_3薄膜电磁各向异性的应变调控第83-113页
   ·引言第83-84页
   ·样品制备及实验方法介绍第84-92页
     ·La_(0.325)Pr_(0.3)Ca_(0.375)MnO_3多晶靶材制备第84-85页
     ·La_(0.325)Pr_(0.3)Ca_(0.375)MnO_3薄膜制备第85-86页
     ·XRD结构表征第86-89页
     ·AFM及TEM表征第89-91页
     ·样品电极制备第91-92页
   ·实验结果及分析第92-108页
     ·各向异性磁性第92-94页
     ·各向异性电阻第94-98页
     ·各向异性电阻的起源第98-102页
     ·各向异性磁阻第102-108页
 本章小结第108-109页
 参考文献第109-113页
第四章 锰氧化物薄膜/压电衬底异质结中应变效应与场效应的共存与区分第113-135页
   ·引言第113-114页
   ·样品制备及实验方法介绍第114-118页
     ·La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3及SrTiO_3多晶靶材制备第114页
     ·薄膜制备第114-115页
     ·结构表征第115-116页
     ·铁电/压电性能及应变/场效应的测量第116-118页
   ·实验结果及分析第118-125页
     ·PMN-PT衬底的铁电性能及异质结的逆压电效应第118-121页
     ·LCMO薄膜中应变效应与场效应的共存第121-123页
     ·LCMO薄膜中应变效应与场效应的区分第123-125页
   ·原位动态应变调控LPCMO薄膜相分离第125-130页
   ·本章小结第130-131页
 参考文献第131-135页
第五章 CrO_2单晶外延薄膜的磁热效应第135-150页
   ·引言第135-136页
   ·样品制备及实验方法介绍第136-139页
     ·CVD法制备CrO_2薄膜第136-137页
     ·结构表征及磁性测量第137页
     ·磁热效应的计算第137-139页
   ·实验结果及分析第139-147页
     ·薄膜结构表征第139-140页
     ·薄膜的磁性及磁熵变第140-147页
   ·本章小结第147-148页
 参考文献第148-150页
攻读学位期间发表的学术论文第150-152页
致谢第152页

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