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VO2外延薄膜制备、生长机理及相变温度调控研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
第一章 绪论第12-50页
   ·金属绝缘相变简介第12-15页
     ·金属绝缘相变材料发现及应用第12-13页
     ·晶体场理论第13页
     ·金属绝缘转变理论第13-15页
   ·VO_2相变研究背景介绍第15-41页
     ·VO_2简介第15-16页
     ·VO_2相变特点第16-17页
     ·VO_2薄膜应用前景第17-20页
     ·VO_2制备方法第20-25页
     ·VO_2相变机理解释第25-29页
     ·触发VO_2相变发生途径第29-34页
     ·降低VO_2相变温度方法第34-41页
   ·本论文内容安排第41-42页
 参考文献第42-50页
第二章 样品制备以及表征方法第50-70页
   ·样品制备方法第50-59页
     ·脉冲激光沉积技术(PLD)第50-53页
     ·分子束外延(MBE)技术简介第53-58页
     ·溶胶-凝胶方法(sol-gel)第58-59页
   ·常用薄膜表征手段介绍第59-68页
     ·X射线衍射(XRD)技术第59-65页
     ·拉曼光谱技术第65页
     ·X射线吸收精细结构(XAFS)谱第65-66页
     ·SEM与AFM技术第66-68页
   ·本章小结第68-69页
 参考文献第69-70页
第三章 氧分压对VO_2相组分以及相变温度的影响第70-84页
   ·氧分压对VO_2相组分的影响第70-74页
     ·样品制备第70页
     ·物相分析第70-72页
     ·形貌表征第72-74页
     ·性能表征第74页
     ·小结第74页
   ·氧压对VO_2相变温度的影响第74-81页
     ·样品制备第75-76页
     ·XRD表征第76-77页
     ·厚度分析第77-78页
     ·变温电阻实验第78-79页
     ·氧空位降低相变温度机制研究第79-81页
     ·小结第81页
 参考文献第81-84页
第四章 VO_2外延生长特性研究第84-100页
   ·六方晶系c面蓝宝石上VO_2外延生长特性研究第84-92页
     ·样品制备以及性能表征第84-85页
     ·常规光源四圆衍射仪φ-scan XRD表征第85-87页
     ·高分辨同步辐射XRD研究VO_2/c面蓝宝石外延生长特性第87-91页
     ·小结第91-92页
   ·六方晶系m面蓝宝石上VO_2生长特性研究第92-97页
     ·样品制备及性能表征第92-93页
     ·物相分析第93-94页
     ·X射线吸收精细结构(XAFS)谱学研究第94-97页
     ·小结第97页
   ·四方晶系TiO_2上VO_2外延特性研究第97-98页
 参考文献第98-100页
第五章 VO_2相变温度调控研究第100-116页
   ·界面应力调控VO_2相变温度研究第100-109页
     ·超薄VO_2薄膜的制备以及厚度有关的相变温度薄膜第100页
     ·薄膜厚度表征以及变温电阻测量实验第100-102页
     ·生长动力学研究第102-105页
     ·应力调控相变温度研究第105-108页
     ·小结第108-109页
   ·电场调控相变温度初步研究第109-114页
     ·电场调控VO_2/PMN-PT薄膜相变温度研究第109-111页
     ·电场调控VO_2/p型GaN薄膜相变温度初步探究第111-113页
     ·小结第113-114页
 参考文献第114-116页
第六章 VO_2谱学方面初步探究第116-122页
   ·变温光电导实验第116-117页
   ·利用拉曼成像研究VO_2相分离动力学过程第117-119页
   ·VO_2、石墨烯复合材料的初步探索第119-120页
   ·小结第120-121页
 参考文献第121-122页
第七章 总结与展望第122-124页
致谢第124-126页
在读期间发表的学术论文与取得的其它研究成果第126-127页

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