摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-50页 |
·金属绝缘相变简介 | 第12-15页 |
·金属绝缘相变材料发现及应用 | 第12-13页 |
·晶体场理论 | 第13页 |
·金属绝缘转变理论 | 第13-15页 |
·VO_2相变研究背景介绍 | 第15-41页 |
·VO_2简介 | 第15-16页 |
·VO_2相变特点 | 第16-17页 |
·VO_2薄膜应用前景 | 第17-20页 |
·VO_2制备方法 | 第20-25页 |
·VO_2相变机理解释 | 第25-29页 |
·触发VO_2相变发生途径 | 第29-34页 |
·降低VO_2相变温度方法 | 第34-41页 |
·本论文内容安排 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-50页 |
第二章 样品制备以及表征方法 | 第50-70页 |
·样品制备方法 | 第50-59页 |
·脉冲激光沉积技术(PLD) | 第50-53页 |
·分子束外延(MBE)技术简介 | 第53-58页 |
·溶胶-凝胶方法(sol-gel) | 第58-59页 |
·常用薄膜表征手段介绍 | 第59-68页 |
·X射线衍射(XRD)技术 | 第59-65页 |
·拉曼光谱技术 | 第65页 |
·X射线吸收精细结构(XAFS)谱 | 第65-66页 |
·SEM与AFM技术 | 第66-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-70页 |
第三章 氧分压对VO_2相组分以及相变温度的影响 | 第70-84页 |
·氧分压对VO_2相组分的影响 | 第70-74页 |
·样品制备 | 第70页 |
·物相分析 | 第70-72页 |
·形貌表征 | 第72-74页 |
·性能表征 | 第74页 |
·小结 | 第74页 |
·氧压对VO_2相变温度的影响 | 第74-81页 |
·样品制备 | 第75-76页 |
·XRD表征 | 第76-77页 |
·厚度分析 | 第77-78页 |
·变温电阻实验 | 第78-79页 |
·氧空位降低相变温度机制研究 | 第79-81页 |
·小结 | 第81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
第四章 VO_2外延生长特性研究 | 第84-100页 |
·六方晶系c面蓝宝石上VO_2外延生长特性研究 | 第84-92页 |
·样品制备以及性能表征 | 第84-85页 |
·常规光源四圆衍射仪φ-scan XRD表征 | 第85-87页 |
·高分辨同步辐射XRD研究VO_2/c面蓝宝石外延生长特性 | 第87-91页 |
·小结 | 第91-92页 |
·六方晶系m面蓝宝石上VO_2生长特性研究 | 第92-97页 |
·样品制备及性能表征 | 第92-93页 |
·物相分析 | 第93-94页 |
·X射线吸收精细结构(XAFS)谱学研究 | 第94-97页 |
·小结 | 第97页 |
·四方晶系TiO_2上VO_2外延特性研究 | 第97-98页 |
参考文献 | 第98-100页 |
第五章 VO_2相变温度调控研究 | 第100-116页 |
·界面应力调控VO_2相变温度研究 | 第100-109页 |
·超薄VO_2薄膜的制备以及厚度有关的相变温度薄膜 | 第100页 |
·薄膜厚度表征以及变温电阻测量实验 | 第100-102页 |
·生长动力学研究 | 第102-105页 |
·应力调控相变温度研究 | 第105-108页 |
·小结 | 第108-109页 |
·电场调控相变温度初步研究 | 第109-114页 |
·电场调控VO_2/PMN-PT薄膜相变温度研究 | 第109-111页 |
·电场调控VO_2/p型GaN薄膜相变温度初步探究 | 第111-113页 |
·小结 | 第113-114页 |
参考文献 | 第114-116页 |
第六章 VO_2谱学方面初步探究 | 第116-122页 |
·变温光电导实验 | 第116-117页 |
·利用拉曼成像研究VO_2相分离动力学过程 | 第117-119页 |
·VO_2、石墨烯复合材料的初步探索 | 第119-120页 |
·小结 | 第120-121页 |
参考文献 | 第121-122页 |
第七章 总结与展望 | 第122-124页 |
致谢 | 第124-126页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第126-127页 |