| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·国内外高重复率脉冲准分子激光器的发展动态 | 第7-9页 |
| ·高重复频率准分子激光器中若干关键技术发展概况 | 第9-10页 |
| ·课题题目、来源及意义 | 第10-12页 |
| 2 气体放电基本理论以及若干预电离技术 | 第12-22页 |
| ·气体放电基本理论 | 第12-15页 |
| ·常见的预电离技术 | 第15-22页 |
| 3 常见的电晕预电离装置结构及电晕预电离装置的设计 | 第22-32页 |
| ·常见的电晕预电离结构 | 第22-28页 |
| ·本文设计的电晕预电离装置 | 第28-32页 |
| 4 电晕预电离影响因素的研究 | 第32-58页 |
| ·电晕预电离理论分析和实验方案 | 第32-34页 |
| ·电晕预电离现象的观测和放电强度的测量 | 第34-45页 |
| ·电晕放电光谱检测与转动温度的计算 | 第45-58页 |
| 5 激光腔中电晕放电的探测 | 第58-66页 |
| ·激光腔中电晕放电现象的观测 | 第58-60页 |
| ·使用 ICCD 对激光腔中的放电过程观测 | 第60-66页 |
| 6 总结与展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |