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基于8-羟基喹啉铝OLED器件的优化

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-30页
   ·OLED的基本概念、原理及发展简史第10-19页
     ·OLED的基本概念第10-11页
     ·基础光原理第11-15页
     ·OLED的器件结构第15-17页
     ·OLED的发光机理第17-18页
     ·OLED的发展简史第18-19页
   ·Alq_3基OLED存在的问题及其改进措施第19-23页
     ·Alq_3基OLED存在的问题第19-22页
     ·Alq_3分子的包覆改性第22-23页
   ·OLED器件的制备工艺及性能指标第23-26页
     ·OLED器件的制备工艺第23-24页
     ·OLED器件的性能参数第24-26页
   ·石墨烯/氧化石墨烯简介第26-29页
     ·石墨烯的结构和电学性质第26-28页
     ·氧化石墨烯结构与合成第28-29页
   ·本论文的研究内容与目的第29-30页
第二章 Alq_3分子填充分子筛MCM-41的尝试第30-36页
   ·前言第30页
   ·实验试剂第30-31页
   ·仪器和测试方法第31页
   ·Alq_3与MCM-41分子筛的合成与表征第31-35页
     ·Alq_3的合成第31-32页
     ·Alq_3的结构表征第32-33页
     ·MCM-41分子筛的制备第33-34页
     ·Alq_3-MCM-41的制备的尝试第34-35页
   ·结果分析第35页
   ·本章小结第35-36页
第三章 SiO_2-Alq_3杂化材料的合成与制备第36-42页
   ·前言第36页
   ·实验试剂第36-37页
   ·仪器和测试方法第37页
   ·实验步骤第37-38页
   ·结构表征与结果讨论第38-41页
   ·本章小结第41-42页
第四章 氧化石墨烯(GO)的制备及其在OLED器件中的应用第42-56页
   ·前言第42页
   ·实验试剂第42-43页
   ·仪器和测试方法第43页
   ·GO的制备与结构表征第43-52页
     ·GO的制备第43-44页
     ·XRD表征GO第44-47页
     ·GO的SEM与TEM形貌表征第47-49页
     ·GO的XPS表征第49-50页
     ·GO的拉曼光谱第50-51页
     ·GO的红外光谱第51页
     ·GO的紫外吸收光谱第51-52页
   ·GO在OLED器件中的应用第52-55页
     ·器件的制备第52-53页
     ·结果与讨论第53-55页
   ·本章小结第55-56页
第五章 结论、创新点与展望第56-58页
   ·结论第56-57页
   ·创新点第57页
   ·展望第57-58页
参考文献第58-62页
致谢第62-64页
攻读硕士学位期间发表的论文第64页

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