摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-30页 |
·OLED的基本概念、原理及发展简史 | 第10-19页 |
·OLED的基本概念 | 第10-11页 |
·基础光原理 | 第11-15页 |
·OLED的器件结构 | 第15-17页 |
·OLED的发光机理 | 第17-18页 |
·OLED的发展简史 | 第18-19页 |
·Alq_3基OLED存在的问题及其改进措施 | 第19-23页 |
·Alq_3基OLED存在的问题 | 第19-22页 |
·Alq_3分子的包覆改性 | 第22-23页 |
·OLED器件的制备工艺及性能指标 | 第23-26页 |
·OLED器件的制备工艺 | 第23-24页 |
·OLED器件的性能参数 | 第24-26页 |
·石墨烯/氧化石墨烯简介 | 第26-29页 |
·石墨烯的结构和电学性质 | 第26-28页 |
·氧化石墨烯结构与合成 | 第28-29页 |
·本论文的研究内容与目的 | 第29-30页 |
第二章 Alq_3分子填充分子筛MCM-41的尝试 | 第30-36页 |
·前言 | 第30页 |
·实验试剂 | 第30-31页 |
·仪器和测试方法 | 第31页 |
·Alq_3与MCM-41分子筛的合成与表征 | 第31-35页 |
·Alq_3的合成 | 第31-32页 |
·Alq_3的结构表征 | 第32-33页 |
·MCM-41分子筛的制备 | 第33-34页 |
·Alq_3-MCM-41的制备的尝试 | 第34-35页 |
·结果分析 | 第35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 SiO_2-Alq_3杂化材料的合成与制备 | 第36-42页 |
·前言 | 第36页 |
·实验试剂 | 第36-37页 |
·仪器和测试方法 | 第37页 |
·实验步骤 | 第37-38页 |
·结构表征与结果讨论 | 第38-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第四章 氧化石墨烯(GO)的制备及其在OLED器件中的应用 | 第42-56页 |
·前言 | 第42页 |
·实验试剂 | 第42-43页 |
·仪器和测试方法 | 第43页 |
·GO的制备与结构表征 | 第43-52页 |
·GO的制备 | 第43-44页 |
·XRD表征GO | 第44-47页 |
·GO的SEM与TEM形貌表征 | 第47-49页 |
·GO的XPS表征 | 第49-50页 |
·GO的拉曼光谱 | 第50-51页 |
·GO的红外光谱 | 第51页 |
·GO的紫外吸收光谱 | 第51-52页 |
·GO在OLED器件中的应用 | 第52-55页 |
·器件的制备 | 第52-53页 |
·结果与讨论 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第五章 结论、创新点与展望 | 第56-58页 |
·结论 | 第56-57页 |
·创新点 | 第57页 |
·展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
致谢 | 第62-64页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |