钛酸锶基半导体光催化材料制备及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·前言 | 第8-11页 |
| ·有机污染物物的主要特征及危害 | 第8-10页 |
| ·有机物处理主要方法 | 第10-11页 |
| ·光催化材料 | 第11-13页 |
| ·光催化发展 | 第11-12页 |
| ·光催化材料简介 | 第12-13页 |
| ·本文研究内容 | 第13-16页 |
| 第二章 光催化材料及机理 | 第16-34页 |
| ·光催化材料 | 第16-19页 |
| ·传统二氧化钛光催化材料及其改性的研究 | 第16-17页 |
| ·非二氧化钛类光催化材料 | 第17-19页 |
| ·纳米钛酸锶基光催化材料的制备 | 第19-27页 |
| ·钛酸锶基材料结构分析 | 第19-20页 |
| ·钛酸锶材料的主要合成方法 | 第20-25页 |
| ·各种方法对比分析 | 第25-27页 |
| ·光催化反应降解有机物机理 | 第27-32页 |
| ·纯光催化剂体系 | 第27-28页 |
| ·光催化剂氧气体系 | 第28-29页 |
| ·光催化剂过氧化氢体系 | 第29页 |
| ·光-Fenton体系 | 第29-30页 |
| ·光催化反应动力学机理 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-34页 |
| 第三章 实验体系设计及实施 | 第34-48页 |
| ·实验体系设计及实施 | 第34-38页 |
| ·自建光催化反应器设计原理 | 第34-35页 |
| ·自建反应器设计方案 | 第35-38页 |
| ·高能球磨工艺制备及微观分析 | 第38-39页 |
| ·高能球磨实验仪器及材料 | 第38页 |
| ·高能球磨实验过程 | 第38-39页 |
| ·高能球磨系列实验 | 第39页 |
| ·材料微观性能及稳定性分析 | 第39-40页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39页 |
| ·TG-DTA热重材料稳定性分析 | 第39-40页 |
| ·透射电镜微观分析 | 第40页 |
| ·光催化性能研究及动力学计算 | 第40-45页 |
| ·光催化试验方法 | 第40-41页 |
| ·光催化反应系列实验设计 | 第41-43页 |
| ·UV-Vis紫外可见分光光度计测试 | 第43-44页 |
| ·动力学计算分析 | 第44-45页 |
| ·阻抗频率性能研究 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第48-68页 |
| ·催化剂材料微观分析 | 第48-50页 |
| ·x射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·差重与热重分析 | 第49-50页 |
| ·TEM透射电镜分析 | 第50页 |
| ·材料光催化性能分析 | 第50-62页 |
| ·不同掺杂比例光催化剂的对比试验 | 第51-59页 |
| ·不同pH值下的光催化剂对比试验 | 第59-60页 |
| ·不同光催化剂投加量对比试验 | 第60-61页 |
| ·不同光源对催化剂的影响 | 第61-62页 |
| ·阻抗分析 | 第62-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论和展望 | 第68-70页 |
| ·结论 | 第68页 |
| ·展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
