金属表面硅烷膜的制备工艺优化及改性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·金属的腐蚀与防护 | 第10-12页 |
| ·金属腐蚀的分类 | 第10-11页 |
| ·金属腐蚀的防护 | 第11-12页 |
| ·冷轧钢表面预处理常用技术 | 第12-14页 |
| ·铬化处理 | 第12-13页 |
| ·磷化处理 | 第13-14页 |
| ·其他处理方法 | 第14页 |
| ·硅烷化处理技术 | 第14-22页 |
| ·硅烷偶联剂概况 | 第14-16页 |
| ·硅烷偶联剂结构特点 | 第16-17页 |
| ·硅烷偶联剂作用机理 | 第17-19页 |
| ·硅烷偶联剂使用方法 | 第19页 |
| ·硅烷偶联剂防腐蚀机理 | 第19-21页 |
| ·应用现状 | 第21-22页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第22-24页 |
| ·本课题研究的意义 | 第22-23页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验内容与方法 | 第24-31页 |
| ·实验材料及性状 | 第24-26页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·主要材料介绍 | 第24-25页 |
| ·实验仪器 | 第25-26页 |
| ·实验过程流程图 | 第26页 |
| ·主要试验方法 | 第26-31页 |
| ·电导率分析 | 第26页 |
| ·硫酸铜点滴实验 | 第26-27页 |
| ·塔菲尔曲线 | 第27-28页 |
| ·阳极极化曲线 | 第28页 |
| ·电化学交流阻抗测量 | 第28-29页 |
| ·电镜（SEM） | 第29页 |
| ·红外反射吸收光谱仪(FT-IR) | 第29-30页 |
| ·光电子能谱分析（XPS） | 第30页 |
| ·正交试验 | 第30-31页 |
| 第三章 单硅烷水基体系硅烷膜制备工艺优化 | 第31-43页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·硅烷水解缩合理论基础 | 第31-32页 |
| ·硅烷水解机理 | 第31-32页 |
| ·缩合机理 | 第32页 |
| ·硅烷的选择 | 第32-34页 |
| ·水解工艺的选择 | 第34页 |
| ·水解溶剂的选择 | 第34页 |
| ·水解检测方法的确定 | 第34页 |
| ·实验过程 | 第34-35页 |
| ·pH 值对溶液稳定性的影响 | 第34页 |
| ·乙醇/水比例的影响 | 第34-35页 |
| ·水解时间的影响 | 第35页 |
| ·硅烷浓度的影响 | 第35页 |
| ·硅烷溶液的制备工艺优化 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-42页 |
| ·pH 值对溶液稳定性的影响 | 第35-36页 |
| ·乙醇/去离子水比的影响 | 第36-40页 |
| ·水解时间的影响 | 第40-41页 |
| ·硅烷浓度的影响 | 第41页 |
| ·硅烷溶液制备正交试验 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 硅烷-锆盐复合膜的制备及性能表征 | 第43-59页 |
| ·前言 | 第43页 |
| ·实验过程 | 第43-45页 |
| ·电极的制备 | 第43-44页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜的制备 | 第44页 |
| ·硅烷膜的制备过程 | 第44页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜的电化学分析 | 第44页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜表面形貌分析 | 第44页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)分析 | 第44-45页 |
| ·光电子能谱分析（XPS）分析 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-57页 |
| ·硅烷-锆盐复合溶液制备优化 | 第45-47页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜耐腐蚀性能考察 | 第47-50页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜表面 SEM 分析 | 第50-52页 |
| ·硅烷-锆盐复合膜结构分析 | 第52-56页 |
| ·锆盐在金属表面成键及防腐机理探讨 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附件 | 第68页 |
