| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11-15页 |
| ·疏水表面的基本理论 | 第15-17页 |
| ·物质表面的润湿过程 | 第15-16页 |
| ·接触角基本理论 | 第16-17页 |
| ·物质表面粗糙结构的构筑 | 第17-20页 |
| ·激光刻蚀法 | 第17-18页 |
| ·相分离与自组装法 | 第18页 |
| ·水热法 | 第18页 |
| ·化学沉积与电沉积法 | 第18-19页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第19页 |
| ·模板法 | 第19页 |
| ·纳米二氧化硅法 | 第19-20页 |
| ·纳米二氧化硅的制备方法 | 第20-22页 |
| ·气相法 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21页 |
| ·微乳液法 | 第21页 |
| ·沉淀法 | 第21-22页 |
| ·纳米二氧化硅的表面改性 | 第22-23页 |
| ·化学改性 | 第22-23页 |
| ·物理改性 | 第23页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第23-27页 |
| ·研究的目的和意义 | 第23-25页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 (NH_3·H_2O )/(TEOS)摩尔比对纳米 SiO2粉体性能影响的研究 | 第27-35页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·实验部分 | 第27-29页 |
| ·实验材料 | 第27页 |
| ·实验仪器 | 第27-28页 |
| ·试样制备 | 第28页 |
| ·实验仪器和方法 | 第28-29页 |
| ·结果和讨论 | 第29-33页 |
| ·不同(NH_3·H_2O):(TEOS)摩尔比对溶液 pH 的影响 | 第30页 |
| ·不同(NH_3·H_2O):(TEOS)摩尔比对溶胶凝胶法制备二氧化硅粒径的影响 | 第30-31页 |
| ·不同(NH_3·H_2O):(TEOS)摩尔比对成胶时间的影响 | 第31页 |
| ·(NH_3·H_2O):(TEOS)摩尔比变化对二氧化硅羟基含量的影响 | 第31-32页 |
| ·二氧化硅粉体傅里叶红外光谱研究 | 第32-33页 |
| ·二氧化硅粉体 XRD 研究 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 KH-570 原位改性二氧化硅粉体的研究 | 第35-56页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·正交试验设计理论 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-39页 |
| ·实验材料 | 第36页 |
| ·实验仪器 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·测试仪器和方法 | 第37页 |
| ·试样制备 | 第37-38页 |
| ·正交试验设计 | 第38-39页 |
| ·结果和讨论 | 第39-54页 |
| ·正交试验设计结果 | 第39-40页 |
| ·接枝效率试验结果的计算与分析 | 第40-46页 |
| ·活化指数试验结果的计算与分析 | 第46-52页 |
| ·改性前后二氧化硅粉体热重分析的影响 | 第52页 |
| ·改性前后二氧化硅粉体傅里叶红外光谱研究 | 第52-53页 |
| ·改性前后二氧化硅粉体 XRD 研究 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 纳米 SiO_2表处 PVC 建筑膜材及其疏水性研究 | 第56-67页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验部分 | 第56-58页 |
| ·实验材料 | 第56-57页 |
| ·实验仪器 | 第57页 |
| ·试样制备 | 第57页 |
| ·测试仪器和方法 | 第57-58页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-66页 |
| ·二氧化硅含量对膜材水接触角的影响 | 第58-59页 |
| ·二氧化硅含量对膜材延时接触角的影响 | 第59-61页 |
| ·二氧化硅含量对膜材滚动角的影响 | 第61-62页 |
| ·二氧化硅含量对膜材表面能的影响 | 第62-63页 |
| ·时间对膜材水接触角的影响 | 第63页 |
| ·时间对膜材延时接触角的影响 | 第63-64页 |
| ·时间对膜材滚动角的影响 | 第64-65页 |
| ·时间对膜材表面能的影响 | 第65页 |
| ·涂层表面形态变化 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 结论与展望 | 第67-70页 |
| ·结论 | 第67-69页 |
| ·展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-77页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
