利用磁控溅射制备薄膜的研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第1章 绪论	第8-14页
·薄膜发展简史	第8页
·金属薄膜材料的研究	第8-12页
·结构性金属薄膜材料	第9-10页
·功能性薄膜材料	第10-12页
·反射膜和非晶膜	第12-13页
·反射膜	第12-13页
·非晶态膜	第13页
·本章小结	第13-14页
第2章 金属薄膜的制备	第14-22页
·薄膜的制备方法	第14-15页
·磁控溅射原理概述	第15-18页
·概述	第15-16页
·磁控溅射基本原理	第16-18页
·磁控溅射制备薄膜	第18-20页
·基片的准备	第18页
·靶材规格	第18-19页
·镀膜实验过程	第19-20页
·本章小结	第20-22页
第3章 金属反射膜的制备和表征	第22-28页
·Cu 膜和 Ti 膜的制备	第22-23页
·实验简介	第22页
·样品的制备	第22-23页
·金属反射膜表征	第23-27页
·金属反射膜的反射性质	第23-25页
·Cu 膜反射率测定实验	第25页
·Cu 膜反射率测定实验分析	第25-26页
·Ti 膜反射率测定实验与分析	第26-27页
·本章小结	第27-28页
第4章 非晶金属膜的制备	第28-38页
·非晶合金简介	第28-29页
·发展历史	第28页
·优异的性质	第28-29页
·金属玻璃展望	第29页
·制备技术	第29-34页
·非晶形成原理	第29-33页
·金属玻璃的主要制备方法	第33-34页
·利用气相沉积法制备金属薄膜	第34页
·样品检测	第34-36页
·本章小结	第36-38页
结论	第38-40页
参考文献	第40-44页
致谢	第44页