| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-35页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·Ni-Mn-Ga 磁性形状记忆合金 | 第10-26页 |
| ·磁控形状记忆合金 | 第10-11页 |
| ·磁控形状记忆效应微观机制 | 第11-12页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金的马氏体相变 | 第14-21页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金的磁学性能 | 第21-26页 |
| ·Ni-Mn-Ga 磁性形状记忆合金薄膜 | 第26-33页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的制备 | 第26页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的马氏体相变 | 第26-27页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的磁性能 | 第27-29页 |
| ·衬底对 Ni-Mn-Ga 合金薄膜的性能影响 | 第29-32页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的应用 | 第32-33页 |
| ·选题的意义和研究内容 | 第33-35页 |
| ·选题的意义 | 第33页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第33-35页 |
| 第二章 样品制备与测试方法 | 第35-45页 |
| ·实验设备 | 第35-37页 |
| ·FJL560Ⅱ型超高真空磁控与离子束联合溅射设备及其原理 | 第35-37页 |
| ·真空热处理设备 | 第37页 |
| ·分析测试技术 | 第37-43页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第37-39页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第39页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第39-40页 |
| ·振动样品磁强仪（VSM） | 第40-42页 |
| ·扫描探针显微镜（SPM） | 第42-43页 |
| ·实验过程 | 第43-45页 |
| ·靶材的制备 | 第43页 |
| ·基片的准备 | 第43页 |
| ·实验的工艺流程 | 第43-45页 |
| 第三章 Mo 衬底对 Ni-Mn-Ga/Mo 形状记忆薄膜的成分、形貌及磁性能的影响 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·Mo 衬底厚度对 Ni-Mn-Ga 合金薄膜化学成分的影响 | 第45-47页 |
| ·Mo 衬底厚度对 Ni-Mn-Ga 合金薄膜表面形貌的影响 | 第47-50页 |
| ·Mo 衬底厚度不同对 Ni-Mn-Ga 薄膜磁性能和居里温度的影响 | 第50-53页 |
| ·Mo 衬底厚度不同对 Ni-Mn-Ga 薄膜磁畴变化的影响 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 不同 Ni-Mn-Ga 薄膜厚度对 Ni-Mn-Ga/Mo 成分、形貌及磁性能的影响 | 第57-69页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·Ni-Mn-Ga/Mo 薄膜的表面成分变化 | 第57-58页 |
| ·薄膜的断面及表面形貌 | 第58-60页 |
| ·Ni-Mn-Ga/Mo 薄膜的磁性能 | 第60-63页 |
| ·Ni-Mn-Ga 薄膜磁畴观察 | 第63-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第81-82页 |
