AZ91D镁合金黑色陶瓷膜的低能耗微弧氧化制备工艺
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
·课题背景 | 第11页 |
·镁及镁合金表面着色工艺 | 第11-15页 |
·化学转化处理 | 第11-12页 |
·阳极氧化着色处理 | 第12-13页 |
·电镀 | 第13-14页 |
·化学镀 | 第14页 |
·气相沉积 | 第14-15页 |
·其它方法 | 第15页 |
·微弧氧化着色技术 | 第15-19页 |
·微弧氧化技术概况 | 第15-16页 |
·微弧氧化成膜机理 | 第16-17页 |
·微弧氧化技术特点 | 第17页 |
·微弧氧化着色技术的研究概况 | 第17-18页 |
·微弧氧化低能耗的研究概况 | 第18-19页 |
·本文研究目的及主要研究内容 | 第19-21页 |
第二章 实验设备及方法 | 第21-29页 |
·微弧氧化实验设备 | 第21-22页 |
·电源 | 第21页 |
·数据采集系统 | 第21-22页 |
·实验材料 | 第22-23页 |
·实验的技术路线 | 第23页 |
·实验仪器 | 第23-24页 |
·微弧氧化陶瓷膜层的制备 | 第24-25页 |
·试样的制备 | 第24页 |
·试样的前处理 | 第24-25页 |
·电解液的配制 | 第25页 |
·微弧氧化处理 | 第25页 |
·试样后处理 | 第25页 |
·微弧氧化陶瓷膜的表征 | 第25-29页 |
·微弧氧化膜层厚度测试 | 第25页 |
·微弧氧化膜层外观和颜色检测 | 第25-26页 |
·陶瓷膜层的粗糙度检测 | 第26页 |
·膜层的硬度分析 | 第26页 |
·陶瓷膜层附着力(结合强度)检测 | 第26-27页 |
·膜层的耐蚀性能分析 | 第27-28页 |
·陶瓷膜层的相结构分析 | 第28页 |
·膜层的微观形貌及化学成分分析 | 第28-29页 |
第三章 微弧氧化工艺参数优化 | 第29-59页 |
·前言 | 第29页 |
·电解液的优化 | 第29-37页 |
·主溶液的初选 | 第29-31页 |
·主溶液的优化 | 第31-34页 |
·添加剂选择与优化 | 第34-35页 |
·电解液最终优化 | 第35-37页 |
·电参数优化 | 第37-39页 |
·电解液及电参数综合优化 | 第39-41页 |
·氧化时间的选择 | 第41-42页 |
·电解质对微弧氧化行为的影响 | 第42-54页 |
·Na2SiO3对微弧氧化黑色膜的影响 | 第42-44页 |
·六偏柠酸钠对微弧氧化黑色膜的影响 | 第44-45页 |
·氟化钾对微弧氧化黑色膜的影响 | 第45-46页 |
·NH4VO3对微弧氧化黑色膜的影响 | 第46-47页 |
·EDTA 对微弧氧化黑色膜的影响 | 第47-51页 |
·柠檬酸钠对微弧氧化黑色膜的影响 | 第51-54页 |
·电参数对微弧氧化行为的影响 | 第54-57页 |
·电流密度对微弧氧化黑色膜的影响 | 第54-55页 |
·频率对微弧氧化黑色膜的影响 | 第55-56页 |
·占空比对微弧氧化黑色膜的影响 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第四章 微弧氧化膜层的微观形貌和组织特征 | 第59-68页 |
·镁合金微弧氧化陶瓷膜的表面形貌 | 第59-61页 |
·镁合金微弧氧化陶瓷膜的成分及结构分析 | 第61-66页 |
·低能耗微弧氧化黑色膜层的 EDS 分析 | 第61-63页 |
·低能耗微弧氧化黑色膜层的 XRD 分析 | 第63-64页 |
·低能耗微弧氧化黑色膜层的 XPS 分析 | 第64-66页 |
·镁合金微弧氧化低能耗黑色膜层生长过程及机理探讨 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第五章 微弧氧化低能耗黑色陶瓷膜的性能 | 第68-71页 |
·膜层的耐腐蚀性能 | 第68页 |
·膜层的附着力 | 第68-69页 |
·膜层的粗糙度 | 第69页 |
·膜层的硬度 | 第69-70页 |
·本章总结 | 第70-71页 |
全文总结与展望 | 第71-73页 |
·结论 | 第71-72页 |
·工作展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
附件 | 第79页 |