| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 插图目录 | 第12-16页 |
| 表格目录 | 第16-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-25页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·研究背景与现状 | 第17-22页 |
| ·研究背景 | 第17-19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-25页 |
| ·论文选题 | 第22页 |
| ·主要研究内容与论文结构 | 第22-25页 |
| 第2章 CAD/CAE集成系统设计研究 | 第25-49页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·CAD图形系统设计 | 第25-34页 |
| ·Parasolid实体建模内核 | 第26-28页 |
| ·OpenGL关键技术 | 第28-31页 |
| ·基于Parasolid内核和OPENGL技术的CAD图形系统设计 | 第31-34页 |
| ·基于命令流的消息管理器 | 第34-39页 |
| ·面向CAE并行开发的消息管理器设计 | 第35-37页 |
| ·基于COMMAND模式的命令处理器设计 | 第37-39页 |
| ·CAD/CAE集成平台设计 | 第39-47页 |
| ·CAD/CAE集成技术 | 第40-41页 |
| ·CAD/CAE集成数据库设计 | 第41-44页 |
| ·CAD/CAE集成平台整体设计 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 基于CAD参数化技术的光栅刻划机虚拟样机模型研究 | 第49-65页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·CAD参数化建模技术 | 第50-51页 |
| ·光栅刻划机参数化虚拟样机建立 | 第51-62页 |
| ·总体结构分析 | 第51-53页 |
| ·光栅刻划机分度系统参数化虚拟样机模型建立 | 第53-58页 |
| ·光栅刻划机刻划系统参数化虚拟样机模型建立 | 第58-62页 |
| ·虚拟样机刻划运动仿真 | 第62-64页 |
| ·刻划运动方式 | 第62-63页 |
| ·刻划运动仿真 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 基于CAE技术和光栅成像分析的光栅刻划机刻划系统结构优化研究 | 第65-91页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·光栅刻线的光学分析 | 第65-72页 |
| ·衍射光栅成像原理 | 第66-67页 |
| ·光栅成像与机械加工误差关联分析 | 第67-69页 |
| ·基于计算傅里叶光学的光谱分析方法研究 | 第69-72页 |
| ·刻划系统CAE分析研究 | 第72-83页 |
| ·CAE概述及其关键技术 | 第73-75页 |
| ·曲柄滑块机构动力学分析 | 第75-78页 |
| ·刀架导轨CAE模态分析 | 第78-83页 |
| ·刀架导轨实验研究 | 第83-85页 |
| ·刻划系统结构优化研究 | 第85-90页 |
| ·刀架导轨结构优化 | 第86-88页 |
| ·刀架导轨结构参数优化 | 第88-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 第5章 基于遗传算法的光栅刻划机分度系统多目标优化研究 | 第91-115页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·基于遗传算法的多目标优化方法 | 第91-96页 |
| ·多目标优化问题 | 第91-93页 |
| ·遗传算法 | 第93-95页 |
| ·基于遗传算法的多目标优化方法 | 第95-96页 |
| ·基于Pro/E-Matlab集成优化平台 | 第96-101页 |
| ·集成优化平台结构及优化机制 | 第97-98页 |
| ·集成优化平台子系统 | 第98-101页 |
| ·光栅刻划机定位工作台多目标优化研究 | 第101-113页 |
| ·光栅刻划机定位工作台优化问题分析 | 第101-108页 |
| ·基于遗传算法的工作台多目标优化 | 第108-113页 |
| ·本章小结 | 第113-115页 |
| 第6章 光栅刻划机控制实验以及刻线误差研究 | 第115-133页 |
| ·引言 | 第115页 |
| ·光栅刻划机分度系统控制模型研究 | 第115-122页 |
| ·定位工作台控制模型分析研究 | 第115-119页 |
| ·定位工作台系统控制模型辨识 | 第119-122页 |
| ·基于BP神经网络的分度系统控制研究 | 第122-128页 |
| ·BP神经网络 | 第122-125页 |
| ·基于BP神经网络的PID控制方法 | 第125-128页 |
| ·光栅刻划机刻划实验以及刻线误差分析 | 第128-131页 |
| ·光栅刻划机刻划实验 | 第128-129页 |
| ·光栅刻线分析 | 第129-131页 |
| ·本章小结 | 第131-133页 |
| 第7章 总结与展望 | 第133-137页 |
| ·主要研究工作 | 第133-134页 |
| ·主要创新点 | 第134页 |
| ·后续工作展望 | 第134-137页 |
| 参考文献 | 第137-143页 |
| 在读期间发表论文情况 | 第143-145页 |
| 致谢 | 第145页 |
