Bi-2212超导薄膜的制备及ab面内织构特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·课题研究的背景 | 第11-12页 |
| ·高温超导薄膜发展与应用 | 第12-16页 |
| ·超导材料的发展历程 | 第12-14页 |
| ·超导薄膜的兴起与应用 | 第14-15页 |
| ·高温超导薄膜的研究进展 | 第15-16页 |
| ·Bi系超导薄膜的结构与性能 | 第16-19页 |
| ·超导薄膜织构的研究现状 | 第19页 |
| ·本文研究的内容、目的及意义 | 第19-21页 |
| 第2章 基本原理与研究方法 | 第21-31页 |
| ·织构的定义及其类型 | 第21页 |
| ·织构的表示方法 | 第21-23页 |
| ·晶体学指数表示法 | 第22页 |
| ·直接极图表示法 | 第22页 |
| ·反极图表示法 | 第22-23页 |
| ·X射线衍射仪(XRD)的工作原理 | 第23-24页 |
| ·电镜(SEM)工作原理 | 第24-25页 |
| ·EBSD取向测试技术原理 | 第25-27页 |
| ·EBSD技术的应用 | 第27-28页 |
| ·晶粒取向分析 | 第27页 |
| ·微织构分析 | 第27页 |
| ·物相分析 | 第27页 |
| ·应变分析 | 第27-28页 |
| ·晶粒尺寸和性质分析 | 第28页 |
| ·EBSD技术的相关基础 | 第28-31页 |
| ·晶体学基础 | 第28-30页 |
| ·对称性 | 第28-29页 |
| ·晶体结构 | 第29页 |
| ·原子占位和等效点系 | 第29-30页 |
| ·晶体取向的描述 | 第30-31页 |
| ·坐标系的转换 | 第30页 |
| ·取向矩阵的欧拉角表示 | 第30-31页 |
| 第3章 Bi-2212超导薄膜的制备 | 第31-45页 |
| ·实验用品及仪器 | 第31-32页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第32-33页 |
| ·实验结果与讨论 | 第33-43页 |
| ·成分对Bi-2212薄膜的影响 | 第33-34页 |
| ·衬底的温度对Bi-2212薄膜的影响 | 第34-37页 |
| ·高浓度重氧的制备与重氧分压的选择 | 第37-40页 |
| ·衬底的材料选择 | 第40-42页 |
| ·沉积速率 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 Bi系薄膜织构特性的EBSD分析 | 第45-62页 |
| ·实验参数的设定 | 第45-47页 |
| ·EBSD的分辨率的调整 | 第46-47页 |
| ·菊池花样图像处理 | 第47页 |
| ·EBSD自动取向成像技术 | 第47页 |
| ·MgO衬底上生长的Bi-2212超导薄膜的测试 | 第47-54页 |
| ·STO衬底上生长的Bi-2212超导薄膜的测试 | 第54-59页 |
| ·讨论 | 第59-62页 |
| 第5章 结论与展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
