真空喷射镀膜射流流场数值模拟与雾化建模
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·传统溶液制备聚合物薄膜的方法 | 第12-16页 |
| ·旋涂法 | 第12-13页 |
| ·丝网印刷法 | 第13页 |
| ·浸涂法 | 第13-14页 |
| ·喷墨打印 | 第14-15页 |
| ·喷雾热解法 | 第15-16页 |
| ·真空喷射法制备聚合物薄膜介绍 | 第16-17页 |
| ·真空喷射法的研究现状 | 第17-25页 |
| ·真空喷射法 | 第17-18页 |
| ·电离式真空沉积法 | 第18-19页 |
| ·脉冲喷射法 | 第19-22页 |
| ·真空喷射法的比较 | 第22-25页 |
| ·本文的研究目的意义和内容 | 第25-29页 |
| ·研究目的、意义 | 第25-26页 |
| ·研究内容 | 第26-29页 |
| 第2章 射流及喷雾的基本理论 | 第29-51页 |
| ·喷嘴概述 | 第29-32页 |
| ·喷嘴的国内外研究发展状况 | 第30页 |
| ·喷嘴的种类 | 第30-31页 |
| ·喷嘴的雾化机理 | 第31-32页 |
| ·喷嘴性能评价指标 | 第32-38页 |
| ·喷射流量 | 第32页 |
| ·喷雾角度 | 第32-33页 |
| ·喷嘴雾化特性 | 第33-37页 |
| ·喷嘴的选型 | 第37-38页 |
| ·射流概述 | 第38-44页 |
| ·射流的基本概念 | 第38-41页 |
| ·射流的雾化参数 | 第41-44页 |
| ·CFD及其软件概论 | 第44-50页 |
| ·CFD概论 | 第44-46页 |
| ·CFD领域通用商业软件的现状 | 第46-48页 |
| ·本文Fluent软件应用简介及并行计算 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第3章 喷嘴射流流场的Fluent模拟分析 | 第51-83页 |
| ·喷嘴参数对射流流场的影响 | 第51-64页 |
| ·流场的连续性判定 | 第51-52页 |
| ·四种喷嘴介绍 | 第52-53页 |
| ·射流流场的物理模型 | 第53-55页 |
| ·射流流场的数学模型 | 第55-59页 |
| ·射流雾化网格划分 | 第59-61页 |
| ·边界条件的确定 | 第61-62页 |
| ·喷嘴射流雾化流场的数值模拟结果分析 | 第62-64页 |
| ·喷嘴的改进 | 第64-81页 |
| ·喷嘴内部流道对喷嘴射流流场的影响 | 第64-69页 |
| ·喷嘴直径对喷嘴射流流场的影响 | 第69-74页 |
| ·喷嘴内外压差对喷嘴射流流场的影响 | 第74-78页 |
| ·不同液体对喷嘴射流流场影响 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第4章 湍流作用下射法一次雾化模型的建立 | 第83-103页 |
| ·射流雾化机理的研究 | 第83-90页 |
| ·射流雾化机理的基本假说 | 第83页 |
| ·射流雾化的特征参数 | 第83-84页 |
| ·喷嘴喷口流动模型的计算与数值分析 | 第84-86页 |
| ·真空下喷口流动数值模拟分析 | 第86-90页 |
| ·射流雾化液滴破碎模型综述 | 第90-95页 |
| ·K-H不稳定波模型 | 第90-92页 |
| ·泰勒比破碎模型 | 第92-95页 |
| ·真空下射流雾化模型建立 | 第95-101页 |
| ·真空下影响射流雾化的因素分析 | 第95-96页 |
| ·模型的基本假设 | 第96页 |
| ·几何模型和数学模型 | 第96-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第5章 结论与展望 | 第103-105页 |
| ·结论 | 第103-104页 |
| ·展望 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-113页 |
| 致谢 | 第113-115页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第115页 |
