Ni-P-PTFE复合镀层工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| ·复合电镀 | 第9-17页 |
| ·复合电镀的起源 | 第10-11页 |
| ·复合电镀的特点 | 第11-12页 |
| ·复合电镀层的分类及其应用 | 第12-13页 |
| ·复合电沉积机理 | 第13-15页 |
| ·复合镀层的制备方法 | 第15页 |
| ·影响复合镀层形成的因素 | 第15-17页 |
| ·稀土元素 | 第17-21页 |
| ·稀土元素概述 | 第17-18页 |
| ·稀土元素在镀Ni-P合金中的应用 | 第18-19页 |
| ·稀土提高沉积速度的途径 | 第19-20页 |
| ·稀土提高镀层耐蚀性的机理 | 第20页 |
| ·稀土提高析氢电催化活性的机理 | 第20页 |
| ·稀土在电化学中的应用前景 | 第20-21页 |
| ·本文研究的意义及主要内容 | 第21-23页 |
| ·研究意义 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验部分 | 第23-35页 |
| ·仪器 | 第23页 |
| ·药品 | 第23页 |
| ·实验方法 | 第23-24页 |
| ·电沉积机理 | 第24-25页 |
| ·镀液中各成分作用和影响 | 第25-26页 |
| ·复合电镀液配制 | 第26-27页 |
| ·镀件表面前处理 | 第27-28页 |
| ·镀前处理的重要性 | 第27页 |
| ·镀前处理常用方法 | 第27页 |
| ·镀前处理步骤 | 第27-28页 |
| ·工艺流程 | 第28-29页 |
| ·PTFE微粒的分散 | 第29-30页 |
| ·PTFE微粒在镀液中的性质 | 第29页 |
| ·分散方法的选择 | 第29-30页 |
| ·分散效果的评价 | 第30页 |
| ·复合镀层的性能检测 | 第30-35页 |
| ·镀层形貌表征 | 第30页 |
| ·镀层中各成分含量的测定 | 第30-31页 |
| ·镀层的耐磨性和减摩性试验 | 第31页 |
| ·镀层厚度 | 第31页 |
| ·沉积速率和PTFE复合量 | 第31-32页 |
| ·表面光亮度 | 第32页 |
| ·镀层附着强度 | 第32页 |
| ·孔隙率试验 | 第32-33页 |
| ·Tafel曲线法 | 第33页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS) | 第33页 |
| ·全浸泡试验 | 第33-35页 |
| 3 结果与讨论 | 第35-51页 |
| ·PTFE微粒在镀液中的分散 | 第35-37页 |
| ·分散方式对PTFE分散均匀性的影响 | 第35页 |
| ·分散方式对PTFE分散稳定性的影响 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37页 |
| ·复合电镀影响因素的分析 | 第37-51页 |
| ·稀土对电沉积的影响 | 第38-42页 |
| ·次亚磷酸钠对镀层成分含量的影响 | 第42-43页 |
| ·阴极电流密度对电沉积的影响 | 第43-45页 |
| ·搅拌速度对电沉积的影响 | 第45-46页 |
| ·镀液pH对电沉积的影响 | 第46-47页 |
| ·PTFE加入量对电沉积的影响 | 第47-48页 |
| ·镀液温度对电沉积的影响 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 镀层性能检测 | 第51-63页 |
| ·镀层的附着强度 | 第51页 |
| ·镀层的光亮度 | 第51页 |
| ·镀层的孔隙率 | 第51-52页 |
| ·全浸泡试验 | 第52页 |
| ·腐蚀电化学行为 | 第52-58页 |
| ·Tafel曲线 | 第52-55页 |
| ·电化学阻抗谱分析(EIS) | 第55-58页 |
| ·复合镀层表面形貌分析 | 第58-59页 |
| ·镀层耐磨性研究 | 第59-60页 |
| ·镀层减摩性研究 | 第60-61页 |
| ·复合镀层中各成分含量的测定 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 5 结论与建议 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·建议 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 附录 | 第73页 |
