| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·染料水处理国内外现状 | 第9-10页 |
| ·金刚石简介 | 第10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-12页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第12-16页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第12-13页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第13-14页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第14-16页 |
| 第二章 金刚石薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| ·高温高压(HTHP)法 | 第16-17页 |
| ·炸药合成法 | 第17页 |
| ·水热法、溶剂热法 | 第17页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法 | 第17页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD)法 | 第17-18页 |
| ·本论文主要研究的内容 | 第18-19页 |
| 第三章 复合膜材料的制备 | 第19-29页 |
| ·热丝化学气相(HFCVD)沉积金刚石薄膜设备 | 第19-22页 |
| ·控制系统 | 第20页 |
| ·气体通路部分 | 第20-21页 |
| ·真空部分 | 第21-22页 |
| ·水冷却部分 | 第22页 |
| ·电源部分 | 第22页 |
| ·金刚石薄膜的硼掺杂 | 第22-23页 |
| ·金刚石膜的制备实验流程及步骤 | 第23-27页 |
| ·实验小结 | 第27-29页 |
| 第四章 BDD/Ti复合膜电极处理染料水的应用研究 | 第29-45页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的电化学性质 | 第29-32页 |
| ·宽电化学窗口 | 第30-31页 |
| ·低背景电流 | 第31页 |
| ·高化学稳定性 | 第31页 |
| ·低吸附性 | 第31-32页 |
| ·复合材料的制备 | 第32-35页 |
| ·自清洁膜组件设计 | 第35-36页 |
| ·实验步骤 | 第36-37页 |
| ·实验结果与分析 | 第37-44页 |
| ·膜通量 | 第37-38页 |
| ·COD 降解比较 | 第38-40页 |
| ·高效液相（HPLC）分析 | 第40-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-47页 |
| ·工作总结 | 第45-46页 |
| ·工作展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |