ITO，GZO薄膜光电特性及残余应力特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第11-15页 |
| ·ITO 薄膜简介 | 第11-13页 |
| ·GZO 薄膜简介 | 第13-15页 |
| ·国内外的研究状况 | 第15-18页 |
| ·ITO 的研究状况 | 第15-16页 |
| ·GZO 的研究状况 | 第16-18页 |
| ·课题主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜电学，光学，力学理论概述 | 第19-36页 |
| ·薄膜电学理论 | 第19-27页 |
| ·半导化理论 | 第19-20页 |
| ·载流子散射机理 | 第20-23页 |
| ·非晶态半导体的导电方式 | 第23-27页 |
| ·薄膜光学理论 | 第27-33页 |
| ·重要的光学参数 | 第27-32页 |
| ·良导体中反射率与电导率的关系 | 第32-33页 |
| ·薄膜应力理论 | 第33-36页 |
| ·Stoney 方程 | 第33-36页 |
| 第三章 ITO，GZO 薄膜的制备及性能测试 | 第36-44页 |
| ·薄膜制备 | 第36-39页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第36-37页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第37-38页 |
| ·实验过程 | 第38-39页 |
| ·薄膜相关性能测试 | 第39-44页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第39页 |
| ·XRD 衍射分析 | 第39-40页 |
| ·表面形貌分析 | 第40页 |
| ·电学性能测试 | 第40-41页 |
| ·可见光-近红外光学性能测试 | 第41-44页 |
| 第四章 制备工艺对 ITO 薄膜性能的影响 | 第44-67页 |
| ·不同溅射参数对 ITO 薄膜性能的影响 | 第44-60页 |
| ·溅射气压对 ITO 薄膜性能的影响 | 第44-51页 |
| ·溅射时间对 ITO 薄膜性能的影响 | 第51-56页 |
| ·溅射功率对 ITO 薄膜性能的影响 | 第56-60页 |
| ·Al2O3缓冲层对 ITO 薄膜性能的影响 | 第60-67页 |
| ·缓冲层氧分压对 ITO 薄膜性能的影响 | 第60-64页 |
| ·缓冲层厚度对 ITO 薄膜性能的影响 | 第64-67页 |
| 第五章 制备工艺对 GZO 薄膜性能的影响 | 第67-81页 |
| ·溅射时间对 GZO 薄膜性能的影响 | 第67-73页 |
| ·溅射功率对 GZO 薄膜性能的影响 | 第73-76页 |
| ·应力对 GZO 薄膜光学，电学性能的影响 | 第76-81页 |
| 第六章 结论 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 攻硕期间取得的科研成果 | 第90-91页 |
