| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·表面熔覆技术的研究现状 | 第11-14页 |
| ·激光熔覆 | 第11-12页 |
| ·等离子弧熔覆合成法 | 第12页 |
| ·氧乙炔火焰喷涂 | 第12页 |
| ·电火花熔覆 | 第12-13页 |
| ·氩弧熔覆技术 | 第13-14页 |
| ·覆层材料的研究 | 第14-18页 |
| ·覆层材料的选择 | 第14-15页 |
| ·TiB_2 的研究进展 | 第15-18页 |
| ·课题的研究意义及研究内容 | 第18-21页 |
| ·课题的研究意义 | 第18页 |
| ·本课题研究内容 | 第18-21页 |
| 第2章 试验材料与方法 | 第21-29页 |
| ·试验材料 | 第21-22页 |
| ·基体材料 | 第21页 |
| ·预覆涂层粉末 | 第21-22页 |
| ·试验方法 | 第22-29页 |
| ·熔覆层制备 | 第22页 |
| ·高温氧化性测试 | 第22-23页 |
| ·耐烧蚀性能测试 | 第23-25页 |
| ·覆层界面结合性能测试 | 第25-27页 |
| ·组织观察 | 第27页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第27-29页 |
| 第3章 TiB_2 基陶瓷熔覆层的组分设计 | 第29-35页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·覆层反应产物的热力学分析 | 第29-30页 |
| ·预覆涂层组分设计 | 第30-32页 |
| ·Ti-B_4C 体系组分设计 | 第30-31页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系组分设计 | 第31-32页 |
| ·涂层的制备 | 第32页 |
| ·熔覆工艺参数 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 组织结构及界面结合强度分析 | 第35-49页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·Ti-B_4C 体系试验结果 | 第35-39页 |
| ·Ti-B_4C 系试样宏观形貌 | 第35-36页 |
| ·Ti-B_4C 体系熔覆层的X 射线衍射图谱 | 第36-37页 |
| ·Ti-B_4C 体系熔覆层的扫描电镜和能谱元素分析 | 第37-39页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系试验结果 | 第39-42页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系试样宏观形貌 | 第39页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系熔覆层的X 射线衍射图谱 | 第39-40页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系熔覆层的扫描电镜和能谱元素分析 | 第40-42页 |
| ·不同电流条件下Ti-B_4C-SiC 体系熔覆层微观组织分析 | 第42-44页 |
| ·TiB_2 基陶瓷熔覆层缺陷分析 | 第44-46页 |
| ·熔覆层与基体界面结合强度的性能分析 | 第46-48页 |
| ·结合强度测试结果 | 第46-47页 |
| ·界面结合强度的影响因素 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 抗氧化性与耐烧蚀性测试分析 | 第49-72页 |
| ·覆层抗氧化性能研究 | 第49-62页 |
| ·覆层陶瓷中各组元的氧化行为 | 第49-50页 |
| ·覆层陶瓷的氧化行为 | 第50-53页 |
| ·覆层陶瓷氧化后表面形貌 | 第53-54页 |
| ·覆层陶瓷氧化后的物相组成 | 第54-56页 |
| ·氧化后表面及截面微观组织形貌 | 第56-61页 |
| ·抗氧化机理分析 | 第61-62页 |
| ·氧乙炔耐烧蚀性能研究 | 第62-65页 |
| ·Ti-B_4C 体系耐烧蚀试验结果 | 第62-64页 |
| ·Ti-B_4C-SiC 体系耐烧蚀试验结果 | 第64-65页 |
| ·等离子耐烧蚀性能研究 | 第65-70页 |
| ·覆层烧蚀试验结果 | 第65-66页 |
| ·烧蚀后覆层表面宏观形貌 | 第66-67页 |
| ·覆层抗烧蚀机理 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
