摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-19页 |
·引言 | 第8-9页 |
·垂直磁记录原理及对介质的要求 | 第9-13页 |
·垂直磁记录原理 | 第9-10页 |
·垂直磁记录特点及其对介质的要求 | 第10-13页 |
·光磁混合记录原理及其对介质的要求 | 第13-16页 |
·光磁混合记录原理 | 第13-14页 |
·光磁混合记录特点及其对介质的要求 | 第14-16页 |
·钴基稀土系记录介质的研究概况 | 第16-17页 |
·结合微磁学研究的意义和本文的研究内容 | 第17-19页 |
2 微磁学和微磁学数值计算方法 | 第19-28页 |
·引言 | 第19-20页 |
·微磁学基本能量描述 | 第20-24页 |
·微磁学动态过程描述 | 第24-25页 |
·微磁学数值计算的基本步骤 | 第25-26页 |
·数值计算中的一些问题 | 第26-28页 |
·数值计算环境 | 第26-27页 |
·数值分析方法 | 第27-28页 |
3 钴基稀土系记录薄膜 SimulMag 的微磁学模拟研究 | 第28-42页 |
·引言 | 第28页 |
·有限元分析方法与微磁模型 | 第28-30页 |
·有限元分析 | 第28-29页 |
·微磁有限元模型 | 第29-30页 |
·运用 SimulMag 模拟的结果与分析 | 第30-40页 |
·Sm DyCo 单层磁性薄膜的模拟与结果分析 | 第30-34页 |
·加软磁层的SmDyCo 磁性薄膜的模拟与结果分析 | 第34-37页 |
·双层耦合薄膜模拟与结果分析 | 第37-39页 |
·加软磁底层的双层耦合薄膜模拟与结果分析 | 第39-40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
4 钴基稀土系记录薄膜OOMMF 的微磁学模拟研究 | 第42-54页 |
·引言 | 第42页 |
·时域有限差分方法与微磁建模过程 | 第42-44页 |
·时域有限差分方法 | 第42-43页 |
·微磁FDTD 建模过程 | 第43-44页 |
·运用OOMMF 模拟的结果及分析 | 第44-53页 |
·SmTbCo 单层磁性薄膜的磁化特性研究 | 第44-49页 |
·SmTbCo 双层耦合磁性薄膜的磁化特性研究 | 第49-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
5 全文总结 | 第54-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-59页 |