| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪言 | 第7-15页 |
| ·常见的类金刚石薄膜制备方法 | 第7-10页 |
| ·类金刚石薄膜的性能及应用 | 第10-13页 |
| ·本论文研究的主要目的和内容 | 第13-15页 |
| 2 脉冲激光沉积技术 | 第15-23页 |
| ·脉冲激光沉积技术制备薄膜的优点 | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积技术的发展过程 | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第17-22页 |
| ·飞秒脉冲激光制备类金刚石薄膜的优势 | 第22-23页 |
| 3 PLD 制备DLC 薄膜的实验 | 第23-26页 |
| ·实验装置及过程 | 第23-25页 |
| ·类金刚石薄膜制备工艺 | 第25-26页 |
| 4 影响大面积均匀薄膜制备的因素及分析 | 第26-30页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第26页 |
| ·影响膜厚均匀性的因素及改进措施 | 第26-30页 |
| 5 薄膜厚度分布的模拟与实验结果 | 第30-44页 |
| ·等离子体的空间膨胀 | 第30-32页 |
| ·薄膜厚度分布的模拟 | 第32-38页 |
| ·薄膜厚度分布的实验结果与分析 | 第38-44页 |
| 6 总结 | 第44-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |