| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-29页 |
| ·有机—无机化合物层状类钙钛矿结构 | 第10-14页 |
| ·层状类钙钛矿结构的有机—无机化合物研究进展 | 第14-27页 |
| ·合成 | 第14-18页 |
| ·薄膜制备方法 | 第18-22页 |
| ·性能 | 第22-24页 |
| ·应用 | 第24-27页 |
| ·本论文研究的目的和主要内容 | 第27-29页 |
| ·研究对象的选择 | 第27-28页 |
| ·研究内容与研究方案 | 第28-29页 |
| 第2章 (RNH_3)_2CuX_4系列晶体的合成与制备方法 | 第29-44页 |
| ·实验试剂与设备 | 第29-30页 |
| ·晶体粉末的制备 | 第30-38页 |
| ·合成线路 | 第30-36页 |
| ·反应时间 | 第36-37页 |
| ·干燥制度 | 第37-38页 |
| ·产物的表征 | 第38-42页 |
| ·组分 | 第38-39页 |
| ·XRD衍射图谱 | 第39-41页 |
| ·扫描电镜 | 第41-42页 |
| ·产物的颜色 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 常温下(RNH_3)_2CuX_4系列晶体的结构研究 | 第44-74页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·简单的结构精修 | 第45-56页 |
| ·卤素原子对结构的影响 | 第50-53页 |
| ·有机组元对结构的影响 | 第53-56页 |
| ·有机层结构分析 | 第56-64页 |
| ·红外光谱分析 | 第64-68页 |
| ·差热分析 | 第68-72页 |
| ·化合物的稳定性 | 第68-69页 |
| ·热分解温度的确定 | 第69-71页 |
| ·化合物的氢键强弱推测 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第4章 (RNH_3)_2CuX_4薄膜制备及性能 | 第74-113页 |
| ·(C_6H_5CH_2CH_2NH_3)_2CuCl_4薄膜的制备 | 第74-86页 |
| ·基片的选择及清洗 | 第74-75页 |
| ·溶剂的选择 | 第75页 |
| ·溶液浓度的选择 | 第75-76页 |
| ·基底温度对薄膜的影响 | 第76-77页 |
| ·旋涂次数对薄膜的影响 | 第77-83页 |
| ·热处理制度对薄膜的影响 | 第83-86页 |
| ·其他体系薄膜的制备 | 第86-93页 |
| ·苄胺系列薄膜制备 | 第87-89页 |
| ·苯胺和对苯二胺系列薄膜制备 | 第89-93页 |
| ·薄膜结构分析 | 第93-95页 |
| ·光谱分析 | 第95-99页 |
| ·吸收光谱分析 | 第95-98页 |
| ·发射光谱分析 | 第98-99页 |
| ·霍尔效应 | 第99-111页 |
| ·载流子的散射机构 | 第100-102页 |
| ·载流子迁移率的测试 | 第102-103页 |
| ·退火工艺对迁移率的影响 | 第103-106页 |
| ·有机组元对迁移率的影响 | 第106-110页 |
| ·卤素元素对迁移率的影响 | 第110-111页 |
| ·本章小节 | 第111-113页 |
| 第5章 结论 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 附录 | 第126页 |
