| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-26页 |
| ·氮化硅的结构与性质 | 第9-12页 |
| ·Si_3N_4 基本性质 | 第9-10页 |
| ·Si_3N_4 的结构种类 | 第10页 |
| ·Si_3N_4 的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·氮化硅陶瓷的性能、应用及发展概况 | 第12-18页 |
| ·氮化硅陶瓷的性能 | 第12-13页 |
| ·氮化硅陶瓷的应用 | 第13-14页 |
| ·氮化硅陶瓷的发展现状 | 第14-17页 |
| ·粉体超微化对陶瓷材料的影响 | 第17-18页 |
| ·纳米氮化硅粉体的制备方法 | 第18-24页 |
| ·纳米氮化硅粉体的制备方法 | 第18-23页 |
| ·制备纳米 Si_3N_4 粉体主要存在问题及发展方向 | 第23-24页 |
| ·本课题研究目标与内容 | 第24-26页 |
| ·研究目标 | 第24页 |
| ·研究内容 | 第24-26页 |
| 2 实验内容及方法 | 第26-31页 |
| ·原材料与试剂 | 第26-28页 |
| ·实验所用的药品与试剂 | 第26页 |
| ·主要原料性质及其选择依据 | 第26-28页 |
| ·实验仪器与设备 | 第28页 |
| ·粉体制备 | 第28-29页 |
| ·粉体表征 | 第29-31页 |
| 3 实验结果与讨论 | 第31-53页 |
| ·前驱体工艺条件的选择 | 第31-34页 |
| ·尿素与甲醛摩尔比的影响 | 第31页 |
| ·反应介质 PH 值的影响 | 第31-32页 |
| ·反应温度和反应时间的影响 | 第32-33页 |
| ·反应液浓度的影响 | 第33页 |
| ·催化剂的影响 | 第33页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第33-34页 |
| ·氮化工艺对纳米氮化硅粉体制备的影响 | 第34-40页 |
| ·前驱体中碳硅比对氮化硅粉体的影响 | 第35-36页 |
| ·氮化温度对氮化硅粉体的影响 | 第36-38页 |
| ·氮气流量对氮化硅粉体的影响 | 第38-39页 |
| ·保温时间对氮化硅粉体的影响 | 第39-40页 |
| ·脱碳温度对粉体质量的影响 | 第40页 |
| ·脱碳时间对氮化硅粉体的影响 | 第40页 |
| ·氮化硅纳米粉体的表征 | 第40-43页 |
| ·粉体的 X 射线衍射分析 | 第40-41页 |
| ·粉体的透射电镜分析 | 第41-42页 |
| ·粉体的红外光谱分析 | 第42页 |
| ·粉体的粒度分析 | 第42-43页 |
| ·对氮化硅形成机理的研究和探讨 | 第43-53页 |
| ·氮化硅前驱体形成机理 | 第43-46页 |
| ·氮化硅粉末的形成机理 | 第46-51页 |
| ·本研究的特色及有待深化方向 | 第51-53页 |
| 4 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致 谢 | 第59-60页 |
| 附 录 | 第60-69页 |