| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-32页 |
| ·GaN材料基本性质 | 第14-17页 |
| ·GaN的相态与结构 | 第14-15页 |
| ·电学特性 | 第15-16页 |
| ·光学特性 | 第16-17页 |
| ·GaN基材料与器件的广泛应用前景 | 第17-20页 |
| ·GaN蓝、绿光LEDs | 第17-18页 |
| ·GaN蓝紫光激光器(LD) | 第18-19页 |
| ·GaN基的电子器件和紫外光(UV)探测器 | 第19-20页 |
| ·GaN的生长方法介绍 | 第20-22页 |
| ·MOCVD生长技术 | 第20-21页 |
| ·MBE生长技术 | 第21-22页 |
| ·HVPE生长技术及其厚膜生长 | 第22页 |
| ·GaN基材料生长面临的问题及研究进展 | 第22-24页 |
| ·HVPE技术的研究历史与现状 | 第24-32页 |
| ·HVPE的研究历史 | 第24-26页 |
| ·采用HVPE生长的GaN薄膜来制备衬底的方法介绍 | 第26-29页 |
| ·制备自支撑衬底的最新进展以及存在的问题 | 第29-32页 |
| 第三章 HVPE系统中的气流模拟计算 | 第32-59页 |
| ·本章序言 | 第32-33页 |
| ·流体力学基本概念和原理 | 第33-36页 |
| ·流体一些基本性质 | 第33页 |
| ·描述流体运动的方法 | 第33-34页 |
| ·流体运动的基本方程组 | 第34-35页 |
| ·流体力学中的理论模型 | 第35-36页 |
| ·Fluent软件群介绍 | 第36-39页 |
| ·Fluent软件群简介 | 第36-37页 |
| ·Gambit软件简介 | 第37-38页 |
| ·Fluent6求解器介绍 | 第38-39页 |
| ·HVPE系统的模拟计算及反应室的设计 | 第39-58页 |
| ·HVPE反应室的设计概述 | 第39-42页 |
| ·HVPE系统模型的建立 | 第42-45页 |
| ·边界条件的设定 | 第45-47页 |
| ·反应器中气流的模拟计算 | 第47-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 表面成核处理 | 第59-74页 |
| ·本章序言 | 第59-60页 |
| ·采用NH_3氮化衬底对HVPE生长GaN的影响 | 第60-67页 |
| ·实验介绍 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-66页 |
| ·氮化机理分析 | 第66-67页 |
| ·HCl中断生长对GaN极性的改变 | 第67-73页 |
| ·GaN材料极性介绍 | 第67-69页 |
| ·实验介绍 | 第69页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第69-72页 |
| ·极性转变的机理分析 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 In辅助GaN膜的HVPE生长 | 第74-80页 |
| ·本章引言 | 第74页 |
| ·实验介绍 | 第74-75页 |
| ·结果与讨论 | 第75-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第六章 低温AlN插入层技术生长GaN膜 | 第80-96页 |
| ·本章引言 | 第80页 |
| ·本章实验介绍 | 第80-82页 |
| ·采用20nm低温AlN插入层生长GaN膜的实验 | 第80-81页 |
| ·采用12nm和7nm低温AlN插入层生长GaN膜的实验 | 第81页 |
| ·本章采用的测试方法介绍 | 第81-82页 |
| ·实验结果与分析 | 第82-95页 |
| ·采用20nm的AlN插入层对HVPE中生长GaN膜的影响 | 第82-85页 |
| ·采用12nm的AlN插入层对HVPE中生长GaN膜的影响 | 第85-94页 |
| ·采用7nm的AlN插入层对HVPE中生长GaN膜的影响 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第七章 采用微区掩膜生长GaN材料 | 第96-108页 |
| ·采用微区掩膜的背景和意义 | 第96-98页 |
| ·采用阳极氧化铝(AAO)做掩膜生长GaN膜 | 第98-103页 |
| ·实验介绍 | 第98页 |
| ·实验结果与分析 | 第98-103页 |
| ·采用AAO掩膜生长GaN机理分析 | 第103页 |
| ·采用金属钨插入层生长氮化镓膜 | 第103-107页 |
| ·实验介绍 | 第103页 |
| ·实验结果与分析 | 第103-106页 |
| ·金属W插入层机理分析 | 第106-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第八章 总结与展望 | 第108-112页 |
| ·取得的主要成果 | 第108-109页 |
| ·存在的问题及建议 | 第109-112页 |
| 参考文献 | 第112-128页 |
| 发表文章及申请专利目录 | 第128-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 作者简历 | 第131-132页 |
| 学位论文独创性声明 | 第132页 |
| 学位论文使用授权声明 | 第132页 |
