摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-14页 |
第一章绪论 | 第14-37页 |
·低维半导体材料概述 | 第14-15页 |
·半导体中的电子态 | 第15-18页 |
·量子点的形成 | 第18-21页 |
·相关研究进展与应用前景 | 第21-24页 |
·本文的组织结构 | 第24-25页 |
·本文的主要创新点及不足 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-37页 |
第二章分子束外延生长技术及表征技术简介 | 第37-47页 |
·分子束外延技术(MBE) | 第37-39页 |
·扫描探针显微镜 | 第39-41页 |
·光谱测量 | 第41-46页 |
参考文献 | 第46-47页 |
第三章在InGaAs 应变层上生长 InAs 量子点 | 第47-82页 |
·研究背景 | 第47-48页 |
·载流子在量子点中迁移的理论模型及激子寿命 | 第48-55页 |
·激子跃迁与激子寿命 | 第48-49页 |
·量子点体系的载流子迁移过程 | 第49-55页 |
·样品制备 | 第55-56页 |
·实验结果与讨论 | 第56-75页 |
·形貌分析 | 第56-58页 |
·低温 PL 谱 | 第58-59页 |
·变温 PL 谱 | 第59-64页 |
·时间分辨谱 | 第64-75页 |
·本章小结 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
第四章 多层结构 InAs 量子点的光致发光研究 | 第82-121页 |
·引言 | 第82-83页 |
·InAs/GaAs 和 InAs/InAsGa/GaAs 多层结构的光致发光研究 | 第83-92页 |
·样品结构与制备 | 第83页 |
·结果与讨论 | 第83-91页 |
·本节小结 | 第91-92页 |
·InGaAs/InAlAs 联合盖帽层对 InAs 量子点光学性质的影响 | 第92-102页 |
·引言 | 第92-94页 |
·样品结构 | 第94页 |
·结果与讨论 | 第94-101页 |
·本节小结 | 第101-102页 |
·在 InGaAs/GaAs 量子阱中生长量子点(DWELL) | 第102-115页 |
·前言 | 第102-103页 |
·样品结构 | 第103-105页 |
·PL 谱测量 | 第105-115页 |
·本节小结 | 第115页 |
·本章小结 | 第115-116页 |
参考文献 | 第116-121页 |
第五章 室温1.48 μm 发光、高温度稳定性 InAs/GaAs 量子点 | 第121-128页 |
·前言 | 第121-122页 |
·样品制备 | 第122页 |
·结果与讨论 | 第122-125页 |
·本章小结 | 第125-126页 |
参考文献 | 第126-128页 |
结论 | 第128-130页 |
博士期间发表的论文 | 第130-132页 |
A.已发表和已接受论文: | 第130-131页 |
B.学术会议论文: | 第131-132页 |
致谢 | 第132页 |