| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-6页 |
| 第一章 引言 | 第6-18页 |
| ·ZnO 材料的基本特性 | 第6-8页 |
| ·ZnO 薄膜的用途 | 第8-10页 |
| ·掺杂ZnO 薄膜的研究 | 第10-13页 |
| ·当前ZnO 材料研究面临的问题 | 第13-14页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第14-18页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征 | 第18-26页 |
| ·射频磁控溅射沉积技术 | 第18-19页 |
| ·样品的制备 | 第19-20页 |
| ·基片的清洗 | 第20-21页 |
| ·薄膜样品的退火后处理 | 第21-22页 |
| ·掺杂氧化锌薄膜的结构表征 | 第22-26页 |
| 第三章 交替溅射沉积的Ge-ZnO 薄膜的结构和光致发光的特性 | 第26-38页 |
| ·RF 功率对薄膜沉积速率的影响 | 第26-27页 |
| ·工作气压对薄膜沉积速率的影响 | 第27页 |
| ·经不同温度退火的Ge-ZnO 薄膜X 射线衍射谱 | 第27-30页 |
| ·Ge-ZnO 薄膜的SEM 测量 | 第30-31页 |
| ·Ge-ZnO 薄膜的PL 谱 | 第31-34页 |
| ·Ge-ZnO 薄膜的透射谱 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-38页 |
| 第四章 共溅射沉积Ge-ZnO 薄膜的结构和光致发光的特性 | 第38-46页 |
| ·Ge-ZnO 薄膜的光致发光谱 | 第38-43页 |
| ·Ge-ZnO 薄膜的紫外透射谱 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-48页 |
| 硕士期间发表文章目录 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 详细摘要 | 第50-52页 |
