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半导体薄膜特性实时检测技术的研究

第一章 绪论第1-11页
 §1.1 半导体薄膜特性检测的意义和现状第8-9页
  §1.1.1 薄膜应力的检测第8-9页
  §1.1.2 薄膜生长率的检测第9页
 §1.2 本文的研究工作第9-11页
第二章 半导体薄膜特性实时检测的相关理论及方法第11-22页
 §2.1 多光束偏转测量法第11-12页
  §2.1.1 简述第11页
  §2.1.2 Stoney方程第11-12页
 §2.2 反射光干涉测量法第12-21页
  §2.2.1 虚拟界面模型求多层半导体薄膜生长率第13-17页
  §2.2.2 单层薄膜干涉理论及生长率等量的求解第17-21页
   §2.2.2.1 单层薄膜上的多光束干涉第17-19页
   §2.2.2.2 简化的双光束干涉模型第19-21页
 §2.3 本章小结第21-22页
第三章 检测装置设计第22-52页
 §3.1 设计思想及总体构成第22-23页
 §3.2 系统技术指标的制定第23-29页
  §3.2.1 激光器波长的选择第23-24页
  §3.2.2 薄膜厚度检测精度与探测电路A/D分辨率及噪声水平第24-25页
  §3.2.3 LD光源的输出功率稳定度第25-26页
  §3.2.4 激光器的频谱漂移第26-27页
  §3.2.5 LD的输出光功率范围第27-28页
  §3.2.6 应力检测灵敏度及误差第28-29页
 §3.3 光学分束组件第29-30页
 §3.4 功率稳定可调半导体激光器第30-42页
  §3.4.1 引言第30-31页
  §3.4.2 PID控制理论第31-35页
   §3.4.2.1 简介第31-32页
   §3.4.2.2 数字PID算法第32-33页
   §3.4.2.3 数字PID调节中的实际问题和变速积分PID算法第33-34页
   §3.4.2.4 PID参数的整定方法第34-35页
  §3.4.3 基于MCS-51单片机的LD自动功率控制系统第35-41页
   §3.4.3.1 激光二极管封装及参数第35页
   §3.4.3.2 MCS-51单片机控制系统设计第35-41页
  §3.4.4 LD温度自动控制电路第41-42页
   §3.4.4.1 LD功率与温度的关系第41-42页
   §3.4.4.2 工作温度稳定电路设计第42页
 §3.5 低噪声、高精度光强数据采集传输模块第42-47页
  §3.5.1 光电检测电路的静态设计第43-45页
   §3.5.1.1 光电检测器件的选择第43-44页
   §3.5.1.2 恒流源型光电器件输入电路的静态计算第44页
   §3.5.1.3 检测器件和放大电路的连接第44-45页
  §3.5.2 光电检测电路的噪声估计第45-47页
   §3.5.2.1 热噪声和散粒噪声第45-46页
   §3.5.2.2 1/f噪声第46页
   §3.5.2.3 噪声及信噪比计算第46-47页
  §3.5.3 数据的采集与传输第47页
 §3.6 薄膜特性计算软件第47-51页
  §3.6.1 IEEE-STD-1057正弦曲线拟合算法第48-50页
   §3.6.1.1 数据模型第48页
   §3.6.1.2 IEEE-STD-1057标准算法第48-50页
  §3.6.2 非线性最小方差估计第50页
  §3.6.3 基于Matlab的计算软件第50-51页
 §3.7 本章小结第51-52页
第四章 实验与结论第52-59页
 §4.1 LD功率的控制第52-55页
  §4.1.1 温度的控制第52-53页
  §4.1.2 功率控制及其结果第53-55页
  §4.1.3 驱动电路的改善第55页
 §4.2 光强检测传输模块的运转第55-56页
 §4.3 薄膜特性计算软件的仿真结果第56-59页
第五章 总结与展望第59-61页
 §5.1 本文的工作总结第59页
 §5.2 对研究工作的展望第59-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-65页
研究生在读其间研究成果第65-66页
附录A第66-67页
附录B第67-68页
附录C第68页

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