双折射光学晶体YVO4生长过程中的数值模拟研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 绪论 | 第7-8页 |
| 第一章 综述 | 第8-25页 |
| §1．1 在光纤通讯技术中的主要应用 | 第8-11页 |
| §1．2 YVO_4大单晶生长 | 第11-14页 |
| §1．2．1 工艺的一般描述 | 第11-12页 |
| §1．2．2 原料合成 | 第12页 |
| §1．2．3 炉型结构与温场的设计 | 第12-13页 |
| §1．2．4 晶体的生长参数调节与近平界面生长 | 第13-14页 |
| §1．3 数值分析方法 | 第14-20页 |
| §1．3．1 数值分析概况 | 第14-15页 |
| §1．3．2 差分格式 | 第15-18页 |
| §1．3．3 检验数学模型的几种方法： | 第18-20页 |
| §1．4 晶体生长过程中的热传输理论 | 第20-25页 |
| §1．4．1 热传输的基本方式 | 第20-21页 |
| §1．4．2 热传输的方程式 | 第21-23页 |
| §1．4．3 晶体中的温场 | 第23-25页 |
| 第二章 模型的建立与分析 | 第25-45页 |
| §2．1 物理模型的建立与分析 | 第25-27页 |
| §2．2 数学模型的建立与分析 | 第27-31页 |
| §2．3 方程分量形式及化简 | 第31-34页 |
| §2．4 方程的离散 | 第34-40页 |
| §2．5 边界条件的建立及其离散化 | 第40-45页 |
| §2．5．1 流函数边界条件的建立及其离散 | 第40-42页 |
| §2．5．2 温度场边界条件的建立及其离散 | 第42-45页 |
| 第三章 程序设计与分析 | 第45-54页 |
| §3．1 程序参量设置说明 | 第45-47页 |
| §3．2 程序流程图及说明 | 第47-53页 |
| §3．3 计算步骤 | 第53-54页 |
| 第四章 结果与分析 | 第54-60页 |
| §4．1 晶体转速对液流转变的影响 | 第55-56页 |
| §4．2 晶体直径的变化及对界面翻转的影响 | 第56-58页 |
| §4．3 熔体深度变化对温度场的影响 | 第58-59页 |
| §4．4 存在的问题 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 附录1 画图源程序 | 第64-65页 |
