前言 | 第1-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-27页 |
1.1 无机膜的研究进展 | 第9-16页 |
1.1.1 无机膜的类型及特点 | 第9-11页 |
1.1.2 无机膜的制备 | 第11-14页 |
1.1.3 无机膜的表征 | 第14-15页 |
1.1.4 无机膜的透过机理 | 第15页 |
1.1.5 无机膜的缺陷及发展前景 | 第15-16页 |
1.2 阳极氧化铝膜的结构特点 | 第16-18页 |
1.3 多孔阳极氧化膜的形成过程 | 第18-20页 |
1.4 多孔阳极氧化铝膜的动力学模型 | 第20-23页 |
1.4.1 阻挡层的控制过程 | 第20-21页 |
1.4.2 离子迁移过程 | 第21-22页 |
1.4.3 多孔层的形成过程 | 第22-23页 |
1.5 阳极氧化膜的应用 | 第23-25页 |
1.5.1 磁学方面的应用 | 第23-24页 |
1.5.2 光电方面的应用 | 第24页 |
1.5.3 太阳能选择吸收膜的应用 | 第24页 |
1.5.4 分离方面的应用 | 第24-25页 |
1.5.5 其他方面的应用 | 第25页 |
1.6 本论文的工作 | 第25-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-35页 |
2.1 实验材料 | 第27-28页 |
2.1.1 实验药品 | 第27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27-28页 |
2.2 实验方法 | 第28-31页 |
2.2.1 膜的制备 | 第28-31页 |
2.2.2 膜的剥离 | 第31页 |
2.3 膜的表征 | 第31-33页 |
2.3.1 膜的微观形貌的观察 | 第31-32页 |
2.3.2 膜的厚度的测量 | 第32页 |
2.3.3 膜的孔径的测量 | 第32-33页 |
2.3.4 膜的孔密度的测量 | 第33页 |
2.3.5 膜的孔隙率的测量 | 第33页 |
2.4 多孔膜分离特性的表征 | 第33-35页 |
第三章 实验结果及分析 | 第35-56页 |
3.1 阻挡层主要影响因素的影响 | 第35-37页 |
3.1.1 浓度对阻挡层的电流密度,形成时间的影响 | 第35页 |
3.1.2 硫酸浓度对阻挡层厚度的影响 | 第35-36页 |
3.1.3 浓度对阻挡层形成过程的影响 | 第36-37页 |
3.2 氧化膜多孔层厚度的影响因素的研究 | 第37-40页 |
3.2.1 氧化时间对膜厚的影响 | 第37-38页 |
3.2.2 浓度对膜厚的影响 | 第38页 |
3.2.3 反应温度对膜厚的影响 | 第38-39页 |
3.2.4 氧化电压对膜厚的影响 | 第39-40页 |
3.3 铝阳极氧化膜生长的电流效率 | 第40-43页 |
3.4 氧化膜的微观结构 | 第43-52页 |
3.4.1 不同电解质中的成膜照片 | 第43-44页 |
3.4.2 EDX能谱分析 | 第44-46页 |
3.4.3 X-射线衍射分析 | 第46-47页 |
3.4.4 退火处理的影响 | 第47-48页 |
3.4.5 氧化膜的孔径和孔密度 | 第48-49页 |
3.4.6 体积扩张因子对膜形貌的影响 | 第49-51页 |
3.4.7 氧化膜的孔隙率 | 第51-52页 |
3.5 氧化膜的透过性能 | 第52-56页 |
3.5.1 电解质种类的影响 | 第52-53页 |
3.5.2 电压对透水率的影响 | 第53页 |
3.5.3 浸泡时间对透水率的影响 | 第53-56页 |
第四章 讨论 | 第56-61页 |
4.1 电解质的种类及成分 | 第56-57页 |
4.2 电场作用 | 第57-58页 |
4.3 阳极氧化膜的生长模型 | 第58-61页 |
第五章 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
致谢 | 第65页 |