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阳极氧化铝膜的制备及影响因素研究

前言第1-9页
第一章 文献综述第9-27页
 1.1 无机膜的研究进展第9-16页
  1.1.1 无机膜的类型及特点第9-11页
  1.1.2 无机膜的制备第11-14页
  1.1.3 无机膜的表征第14-15页
  1.1.4 无机膜的透过机理第15页
  1.1.5 无机膜的缺陷及发展前景第15-16页
 1.2 阳极氧化铝膜的结构特点第16-18页
 1.3 多孔阳极氧化膜的形成过程第18-20页
 1.4 多孔阳极氧化铝膜的动力学模型第20-23页
  1.4.1 阻挡层的控制过程第20-21页
  1.4.2 离子迁移过程第21-22页
  1.4.3 多孔层的形成过程第22-23页
 1.5 阳极氧化膜的应用第23-25页
  1.5.1 磁学方面的应用第23-24页
  1.5.2 光电方面的应用第24页
  1.5.3 太阳能选择吸收膜的应用第24页
  1.5.4 分离方面的应用第24-25页
  1.5.5 其他方面的应用第25页
 1.6 本论文的工作第25-27页
第二章 实验部分第27-35页
 2.1 实验材料第27-28页
  2.1.1 实验药品第27页
  2.1.2 实验仪器第27-28页
 2.2 实验方法第28-31页
  2.2.1 膜的制备第28-31页
  2.2.2 膜的剥离第31页
 2.3 膜的表征第31-33页
  2.3.1 膜的微观形貌的观察第31-32页
  2.3.2 膜的厚度的测量第32页
  2.3.3 膜的孔径的测量第32-33页
  2.3.4 膜的孔密度的测量第33页
  2.3.5 膜的孔隙率的测量第33页
 2.4 多孔膜分离特性的表征第33-35页
第三章 实验结果及分析第35-56页
 3.1 阻挡层主要影响因素的影响第35-37页
  3.1.1 浓度对阻挡层的电流密度,形成时间的影响第35页
  3.1.2 硫酸浓度对阻挡层厚度的影响第35-36页
  3.1.3 浓度对阻挡层形成过程的影响第36-37页
 3.2 氧化膜多孔层厚度的影响因素的研究第37-40页
  3.2.1 氧化时间对膜厚的影响第37-38页
  3.2.2 浓度对膜厚的影响第38页
  3.2.3 反应温度对膜厚的影响第38-39页
  3.2.4 氧化电压对膜厚的影响第39-40页
 3.3 铝阳极氧化膜生长的电流效率第40-43页
 3.4 氧化膜的微观结构第43-52页
  3.4.1 不同电解质中的成膜照片第43-44页
  3.4.2 EDX能谱分析第44-46页
  3.4.3 X-射线衍射分析第46-47页
  3.4.4 退火处理的影响第47-48页
  3.4.5 氧化膜的孔径和孔密度第48-49页
  3.4.6 体积扩张因子对膜形貌的影响第49-51页
  3.4.7 氧化膜的孔隙率第51-52页
 3.5 氧化膜的透过性能第52-56页
  3.5.1 电解质种类的影响第52-53页
  3.5.2 电压对透水率的影响第53页
  3.5.3 浸泡时间对透水率的影响第53-56页
第四章 讨论第56-61页
 4.1 电解质的种类及成分第56-57页
 4.2 电场作用第57-58页
 4.3 阳极氧化膜的生长模型第58-61页
第五章 结论第61-62页
参考文献第62-65页
致谢第65页

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