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WS2薄膜制备工艺及其摩擦学性能的实验研究

摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第1章 绪论第13-31页
   ·引言第13-14页
   ·固体润滑薄膜第14-19页
     ·固体润滑薄膜的作用机理第14-15页
     ·固体润滑薄膜的性能第15-16页
     ·固体润滑薄膜的摩擦磨损第16-19页
   ·WS_2材料概述第19-29页
     ·WS_2材料的基本性质第19-21页
     ·WS_2材料的主要用途第21-22页
     ·WS_2薄膜的常用制备方法第22-23页
     ·WS_2固体润滑薄膜的作用机理第23-25页
     ·关于WS_2薄膜的研究进展第25-29页
   ·本课题的研究内容第29-31页
第2章 WS_2薄膜的制备第31-51页
   ·引言第31页
   ·溅射镀膜的原理及特点第31-36页
     ·直流溅射第31-33页
     ·磁控溅射第33-34页
     ·反应溅射第34-35页
     ·射频溅射第35-36页
   ·WS_2薄膜制备方法的研究第36-38页
     ·反应磁控溅射法制备WS_2薄膜第36-37页
     ·射频溅射法制备WS_2薄膜第37页
     ·硫化法制备WS_2薄膜第37页
     ·其它方法制备WS_2薄膜第37-38页
   ·WS_2薄膜的制备工艺第38-49页
     ·试验方案第38-39页
     ·试验材料及设备第39-44页
     ·样品制备工艺第44-47页
     ·试验操作步骤第47-49页
   ·本章小结第49-51页
第3章 硫化法制备WS_2薄膜的研究第51-65页
   ·引言第51-52页
   ·硫化法WS_2薄膜的表征、测试及分析第52-59页
     ·硫化法WS_2薄膜物相分析第52-54页
     ·硫化法WS_2薄膜表面形貌观察第54-56页
     ·硫化法WS_2薄膜化学成份分析第56-57页
     ·硫化法WS_2薄膜膜厚测定第57-58页
     ·硫化法WS_2薄膜膜基结合强度测试第58-59页
   ·硫化法WS_2薄膜的摩擦磨损性能第59-62页
   ·本章小结第62-65页
第4章 射频溅射法制备WS_2薄膜的研究第65-89页
   ·引言第65页
   ·射频溅射WS_2薄膜的表征、测试及分析第65-79页
     ·射频溅射WS_2薄膜物相分析第65-68页
     ·射频溅射WS_2薄膜表面形貌观察第68-72页
     ·射频溅射WS_2薄膜化学成分分析第72-74页
     ·射频溅射WS_2薄膜膜厚测定第74-76页
     ·射频溅射WS_2薄膜膜基结合强度测试第76-79页
   ·射频溅射WS_2薄膜的摩擦磨损性能第79-86页
     ·射频溅射气压对薄膜摩擦学性能的影响第82-83页
     ·射频溅射功率对薄膜摩擦学性能的影响第83-85页
     ·射频溅射沉积时间对薄膜摩擦学性能的影响第85-86页
   ·本章小结第86-89页
第5章 两种WS_2薄膜制备方法的比较第89-95页
   ·引言第89页
   ·硫化法和射频溅射法制备WS_2薄膜的比较第89-93页
     ·WS_2薄膜结构和表面形貌的比较第89-90页
     ·WS_2薄膜化学成分和厚度的比较第90-91页
     ·WS_2薄膜结合强度和摩擦磨损性能的比较第91-93页
   ·结论第93-95页
第6章 Ti/Ni过渡层及退火处理对射频溅射WS_2薄膜性能的影响第95-111页
   ·引言第95-96页
   ·实验部分第96-98页
     ·试验材料第96页
     ·试验方法第96-98页
   ·结果及分析第98-109页
     ·物相分析第98-100页
     ·表面形貌及微区化学成分分析第100-103页
     ·膜厚结合力测试第103-104页
     ·摩擦性能分析第104-109页
   ·本章小结第109-111页
第7章 结论第111-115页
   ·结论第111-112页
   ·下一步可开展的工作第112-115页
参考文献第115-125页
致谢第125-127页
攻读学位期间发表的论文第127-129页
个人简历第129页

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