薄膜生长的数值模拟及实验验证
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·课题的背景及研究意义 | 第8页 |
| ·计算模型的发展 | 第8-10页 |
| ·量子力学法 | 第9页 |
| ·分子动力学法 | 第9-10页 |
| ·蒙特卡罗法 | 第10页 |
| ·薄膜制备的方法简介 | 第10-12页 |
| ·化学气相沉积 | 第11页 |
| ·物理气相沉积 | 第11-12页 |
| ·本文主要工作 | 第12-14页 |
| 2 薄膜的生长过程和Monte Carlo模型 | 第14-22页 |
| ·薄膜的三维生长 | 第14-19页 |
| ·动力学过程 | 第14-16页 |
| ·薄膜生长模式 | 第16-17页 |
| ·薄膜生长的主要影响因素 | 第17-19页 |
| ·Monte Carlo模拟方法 | 第19-21页 |
| ·Monte Carlo法的计算过程 | 第19-20页 |
| ·薄膜生长的Monte Carlo算法 | 第20页 |
| ·格子类型 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 3 Cu薄膜的三维生长模型 | 第22-33页 |
| ·Cu薄膜简介 | 第22-24页 |
| ·模型的建立 | 第24-28页 |
| ·基底结构 | 第24-26页 |
| ·计算模型 | 第26-28页 |
| ·模拟结果的分析 | 第28-32页 |
| ·基底温度及沉积速率薄膜的影响 | 第28-30页 |
| ·基底温度及覆盖度对薄膜的影响 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 二元合金薄膜三维生长模型 | 第33-46页 |
| ·NiTi合金薄膜简介 | 第33-36页 |
| ·模型建立 | 第36-40页 |
| ·基底结构 | 第36-38页 |
| ·计算模型 | 第38-40页 |
| ·模拟结果分析 | 第40-45页 |
| ·沉积速率对薄膜形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·基底温度对薄膜形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 5 实验制备NiTi合金薄膜 | 第46-55页 |
| ·薄膜的制备 | 第46-49页 |
| ·溅射设备介绍 | 第47-48页 |
| ·基片的处理 | 第48页 |
| ·制备薄膜的过程 | 第48-49页 |
| ·磁控溅射法制备NiTi薄膜的分析 | 第49-54页 |
| ·基底温度对薄膜成分和形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·溅射功率对薄膜成分和形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
