聚合物偏振电致发光器件的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 常用英文缩写注释表 | 第10-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 1 绪论 | 第14-36页 |
| ·聚合物电致发光器件 | 第14-25页 |
| ·发展历史 | 第14-17页 |
| ·器件结构 | 第17-18页 |
| ·基本原理 | 第18-22页 |
| ·性能表征 | 第22-25页 |
| ·聚合物偏振电致发光的研究进展 | 第25-26页 |
| ·聚合物偏振电致发光的实现方法 | 第26-31页 |
| ·机械处理法 | 第27-28页 |
| ·摩擦转移法 | 第28页 |
| ·LB沉积法 | 第28-29页 |
| ·液晶自组装法 | 第29-30页 |
| ·光定向法 | 第30-31页 |
| ·本文主要研究内容和创新意义 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-36页 |
| 2 液晶聚合物偏振发光的基本理论 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·偏振发光的电磁理论 | 第36-39页 |
| ·偏振发光的材料基础 | 第39-44页 |
| ·液晶聚合物结构 | 第39-41页 |
| ·液晶聚合物Flory理论 | 第41-43页 |
| ·有序参数和二向色性比计算 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 3 聚合物偏振电致发光器件的制备与测试 | 第46-74页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验用到的聚合物材料 | 第46-50页 |
| ·芴基发光聚合物 | 第46-49页 |
| ·定向层材料 | 第49-50页 |
| ·聚合物电致发光器件的制备 | 第50-53页 |
| ·ITO基片的刻蚀与清洗 | 第50-51页 |
| ·阳极缓冲层的旋涂与摩擦定向 | 第51-52页 |
| ·聚合物发光层的旋涂与取向 | 第52页 |
| ·阴极蒸镀和封装 | 第52-53页 |
| ·性能测试 | 第53-54页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第53页 |
| ·偏振光致发光光谱 | 第53-54页 |
| ·偏振电致发光光谱与亮度 | 第54页 |
| ·伏安特性 | 第54页 |
| ·半导体聚合物薄膜的光学常数测试 | 第54-64页 |
| ·基本原理 | 第55-58页 |
| ·光学常数和厚度测试 | 第58-62页 |
| ·表面粗糙度对拟合结果的影响 | 第62-64页 |
| ·取向薄膜的光学双折射测定 | 第64-68页 |
| ·反射与透射光谱的测量与拟合 | 第64-65页 |
| ·光学常数各向异性分析 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 4 三基色聚合物偏振电致发光器件的研究 | 第74-92页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·定向层摩擦特性 | 第74-76页 |
| ·发光取向薄膜的偏振特性 | 第76-83页 |
| ·基本光谱性质 | 第76-77页 |
| ·热致液晶相特性分析 | 第77-79页 |
| ·取向条件对薄膜偏振特性的影响 | 第79-83页 |
| ·器件的偏振电致发光性能 | 第83-89页 |
| ·I-V特性 | 第83-85页 |
| ·偏振EL光谱特性 | 第85-87页 |
| ·不同聚合物EL偏振率差异的分析 | 第87-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 5 白光聚合物偏振电致发光器件的研究 | 第92-110页 |
| ·引言 | 第92-93页 |
| ·白光聚合物电致发光的实现方法 | 第93-95页 |
| ·白光聚合物PFO-BT-DBT的材料特性 | 第95-98页 |
| ·基本光谱性质 | 第96页 |
| ·热致液晶相特性分析 | 第96-98页 |
| ·PFO-BT-DBT薄膜的取向 | 第98-101页 |
| ·加热温度的影响 | 第98-100页 |
| ·其它因素的影响 | 第100页 |
| ·最优化取向薄膜的偏振光谱特性 | 第100-101页 |
| ·偏振电致发光器件 | 第101-106页 |
| ·电致发光偏振特性 | 第101-103页 |
| ·器件电学性能 | 第103-104页 |
| ·热处理对电致发光的影响 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106页 |
| 参考文献 | 第106-110页 |
| 6 定向层薄膜的微压印制备 | 第110-129页 |
| ·引言 | 第110-111页 |
| ·微压印技术的基本原理 | 第111-113页 |
| ·微压印技术简介 | 第111-113页 |
| ·实验采用的微压印技术特点 | 第113页 |
| ·PDMS材料性质 | 第113-115页 |
| ·PDMS印章的制备 | 第115-120页 |
| ·硅基模板制作 | 第115-117页 |
| ·PDMS印章的固化成型 | 第117-118页 |
| ·基于光盘模板的PDMS印章成型 | 第118-120页 |
| ·PEDOT:PSS薄膜的微压印定向 | 第120-122页 |
| ·发光薄膜的光学偏振性能 | 第122-125页 |
| ·发光层成膜特性 | 第122-124页 |
| ·器件的偏振吸收谱分析 | 第124-125页 |
| ·本章小结 | 第125页 |
| 参考文献 | 第125-129页 |
| 7 总结与展望 | 第129-132页 |
| 作者简历及攻读博士学位期间发表的文章 | 第132-133页 |
