| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·X射线多层膜的发展 | 第8-9页 |
| ·W/B_4C多层膜的研究及应用 | 第9-10页 |
| ·课题研究背景及主要研究内容 | 第10-12页 |
| 第二章 W/B_4C多层膜反射率计算 | 第12-21页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·多层膜的材料选择 | 第12-13页 |
| ·X射线在多层膜理想界面的反射率计算 | 第13-15页 |
| ·X射线在多层膜非理想界面的反射率计算 | 第15-20页 |
| ·Nevot-Croce粗糙度模型 | 第15-17页 |
| ·Real-Structure粗糙度模型 | 第17-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 W/B_4C多层膜的制备工作 | 第21-31页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·磁控溅射介绍 | 第21-26页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第23-26页 |
| ·W/B_4C多层膜的制备 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 W/B_4C多层膜峰值反射率与散射强度的表征 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第31-35页 |
| ·X射线衍射仪的结构 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射仪小角反射测量法 | 第33-34页 |
| ·X射线衍射仪散射测量法 | 第34-35页 |
| ·W/B_4C多层膜峰值反射率的表征结果与分析 | 第35-39页 |
| ·W/B_4C多层膜散射强度的表征结果与分析 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第五章 全文总结及展望 | 第41-43页 |
| ·主要研究内容及成果 | 第41页 |
| ·论文主要创新点 | 第41页 |
| ·未来工作展望 | 第41-43页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |