| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-37页 |
| ·引言 | 第17-18页 |
| ·热障涂层的制备技术 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化技术研究现状 | 第20-30页 |
| ·机理研究 | 第20-25页 |
| ·膜层结构研究 | 第25-27页 |
| ·微弧氧化膜层热性能研究现状 | 第27-29页 |
| ·含Zr 微弧氧化膜层研究现状 | 第29-30页 |
| ·微弧氧化技术的不足 | 第30-35页 |
| ·本文的研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 实验方法及性能表征 | 第37-47页 |
| ·实验材料 | 第37页 |
| ·实验设备及工艺流程 | 第37-38页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·工艺流程 | 第38页 |
| ·实验方法及设计 | 第38-43页 |
| ·电极距离试验 | 第38-39页 |
| ·约束阴极微弧氧化试验 | 第39-40页 |
| ·非同步微弧氧化 | 第40-41页 |
| ·非连续微弧氧化 | 第41页 |
| ·微弧氧化热阻隔膜层制备 | 第41-43页 |
| ·膜层分析与表征方法 | 第43-47页 |
| ·涡流膜层厚度测试 | 第43页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第43页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第43页 |
| ·扫描电镜观察 | 第43-44页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第44页 |
| ·热稳定性分析 | 第44页 |
| ·抗高温氧化性能分析 | 第44页 |
| ·抗热震性能试验 | 第44-45页 |
| ·氧乙炔烧蚀试验 | 第45页 |
| ·热阻隔测试分析 | 第45-46页 |
| ·拉伸测试 | 第46页 |
| ·摩擦磨损测试分析 | 第46页 |
| ·电化学腐蚀测试分析 | 第46-47页 |
| 第3章 电极距离对微弧氧化放电特性的影响 | 第47-65页 |
| ·阳极表面探针电位分析 | 第47-50页 |
| ·不同阴极结构电极距离变化 | 第50-52页 |
| ·板状阴极结构 | 第50-51页 |
| ·栅网阴极结构 | 第51-52页 |
| ·微距微弧氧化效应 | 第52-55页 |
| ·氧化电压 | 第52-53页 |
| ·溶液温度 | 第53-54页 |
| ·能量效率 | 第54-55页 |
| ·电极距离变化过程中的电压非线性行为 | 第55-63页 |
| ·电极距离对氧化电压的影响 | 第56-59页 |
| ·氧化系统电极结构对氧化电压的影响 | 第59-60页 |
| ·阳极试样表面电流分布 | 第60-61页 |
| ·电极距离对微弧氧化成膜特性的影响 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第4章 约束阴极微弧氧化放电特性 | 第65-82页 |
| ·试验方案及过程 | 第66-67页 |
| ·电极距离对微弧氧化工作电流的影响 | 第67-69页 |
| ·相同约束电极面积 | 第67-68页 |
| ·不同电极工作面积 | 第68-69页 |
| ·电极距离对试样表面不同区域电位及电流分布的影响 | 第69-71页 |
| ·电极距离对起弧电压及成膜特性的影响 | 第71-77页 |
| ·电极距离对起弧电压的影响 | 第71-72页 |
| ·电极距离对微弧氧化膜层厚度的影响 | 第72-74页 |
| ·电极距离对能量效率的影响 | 第74-75页 |
| ·电极距离对试样表面显微形貌的影响 | 第75-76页 |
| ·试样表面不同区域电化学腐蚀性能分析 | 第76-77页 |
| ·约束阴极尺寸对微弧氧化放电特性的影响 | 第77-78页 |
| ·长条形栅网微弧氧化放电特性 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第5章 大面积微弧氧化成膜特性 | 第82-103页 |
| ·非同步处理对微弧氧化电特性的影响 | 第82-85页 |
| ·试验方案及过程 | 第82-84页 |
| ·再处理时间对微弧氧化电特性的影响 | 第84-85页 |
| ·再处理电压对微弧氧化电特性的影响 | 第85页 |
| ·非同步微弧氧化膜层生长特性 | 第85-87页 |
| ·非同步成膜对微弧氧化膜层结构的影响 | 第87-92页 |
| ·XRD 相结构分析 | 第87-88页 |
| ·微弧氧化膜层表面及截面形貌分析 | 第88-92页 |
| ·非同步成膜对微弧氧化膜层耐蚀/耐磨性能的影响 | 第92-94页 |
| ·耐磨性能 | 第92-93页 |
| ·耐蚀性能 | 第93-94页 |
| ·非连续微弧氧化模式对氧化放电及成膜特性的影响 | 第94-98页 |
| ·试验方案及过程 | 第94-95页 |
| ·非连续成膜对氧化电流的影响 | 第95-97页 |
| ·非连续成膜对膜层厚度的影响 | 第97-98页 |
| ·非连续成膜对微弧氧化膜层显微结构的影响 | 第98-99页 |
| ·陶瓷层XRD 分析 | 第98页 |
| ·陶瓷层SEM 分析 | 第98-99页 |
| ·非连续成膜对微弧氧化膜层耐磨/耐蚀性的影响 | 第99-102页 |
| ·不同成膜方式微弧氧化膜层耐磨性能分析 | 第99-101页 |
| ·不同成膜方式微弧氧化膜层耐蚀性能分析 | 第101-102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 第6章 K_2ZrF_6添加剂对2024 铝合金微弧氧化膜层组织结构的影响 | 第103-118页 |
| ·大面积2024 铝合金约束阴极微弧氧化成膜等效研究 | 第103-106页 |
| ·含Zr 微弧氧化膜层制备及放电特性分析 | 第106-107页 |
| ·膜层显微组织结构 | 第107-117页 |
| ·膜层内外表面形貌分析 | 第107-109页 |
| ·膜层截面形貌及元素分析 | 第109-111页 |
| ·膜层相组成分析 | 第111-113页 |
| ·膜层XPS 分析 | 第113-115页 |
| ·膜层TEM 分析 | 第115-117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 第7章 K_2ZrF_6添加剂对2024 铝合金微弧氧化膜层热性能的影响 | 第118-128页 |
| ·TG-DSC 分析 | 第118-119页 |
| ·微弧氧化膜层抗高温氧化性能 | 第119-120页 |
| ·微弧氧化膜层抗烧蚀性能 | 第120-121页 |
| ·微弧氧化膜层热阻隔性能 | 第121页 |
| ·微弧氧化膜层抗热震性能 | 第121-123页 |
| ·微弧氧化膜层的拉伸性能及耐腐蚀性能 | 第123-126页 |
| ·微弧氧化膜层拉伸性能 | 第123-125页 |
| ·微弧氧化膜层的耐蚀性能 | 第125-126页 |
| ·本章小结 | 第126-128页 |
| 第8章 大面积微弧氧化装置设计 | 第128-133页 |
| ·大面积微弧氧化系统总体概况 | 第128页 |
| ·氧化平台结构设计 | 第128-130页 |
| ·循环冷却系统 | 第130页 |
| ·大面积微弧氧化工件处理 | 第130-132页 |
| ·本章小结 | 第132-133页 |
| 结论 | 第133-135页 |
| 参考文献 | 第135-150页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第150-153页 |
| 致谢 | 第153-154页 |
| 个人简历 | 第154页 |
