| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·研究背景 | 第11页 |
| ·金刚石的结构、性质及应用 | 第11-17页 |
| ·金刚石的结构 | 第11-12页 |
| ·金刚石的性质 | 第12-15页 |
| ·CVD金刚石膜的应用 | 第15-17页 |
| ·CVD金刚石膜附着性能与应用的关系及其影响因素 | 第17-18页 |
| ·提高CVD金刚石膜附着性能主要方法及研究现状 | 第18-22页 |
| ·基底表面预处理 | 第18-20页 |
| ·加负偏压增强形核法 | 第20-21页 |
| ·添加中间过渡层 | 第21-22页 |
| ·研究目的及研究内容 | 第22-27页 |
| ·研究目的 | 第22-24页 |
| ·研究内容 | 第24-27页 |
| 第二章 实验设备与检测方法 | 第27-31页 |
| ·实验原理及设备 | 第27-28页 |
| ·实验基体及其表面处理 | 第27页 |
| ·电镀设备 | 第27页 |
| ·电镀理论 | 第27-28页 |
| ·热丝CVD设备 | 第28页 |
| ·镀层及薄膜性能表征方法 | 第28-31页 |
| ·金相显微观察 | 第28-29页 |
| ·镀层成分分析 | 第29页 |
| ·扫描电镜分析表面形貌 | 第29页 |
| ·XRD分析相结构 | 第29页 |
| ·Raman光谱评价金刚石膜的质量及应力状态 | 第29-30页 |
| ·压痕法评价膜基附着力 | 第30-31页 |
| 第三章 金刚石复合镀工艺研究 | 第31-49页 |
| ·三价铬电镀铬的研究 | 第31-33页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·三价铬镀液及工艺的选择 | 第31-32页 |
| ·镀液成分及工艺条件对镀层的影响 | 第32-33页 |
| ·Cu-Cr合金电镀的研究 | 第33-38页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·镀液体系及电镀工艺 | 第33-35页 |
| ·电流密度对镀层形貌和成分的影响 | 第35-38页 |
| ·金刚石复合镀的研究 | 第38-41页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·上砂镀液的选择 | 第38-39页 |
| ·上砂工艺的研究 | 第39-41页 |
| ·HFCVD工艺的研究 | 第41-42页 |
| ·CVD过程中Cr镀层变化的研究 | 第42-47页 |
| ·CVD预处理前后镀Cr层表面形貌的变化 | 第42-44页 |
| ·CVD前后Cr的相结构变化 | 第44-45页 |
| ·不同镀Cr层厚度在CVD预处理之后对金刚石颗粒的粘着性能 | 第45-47页 |
| ·本章小节 | 第47-49页 |
| 第四章 金刚石复合过渡层上生长金刚石膜的研究 | 第49-74页 |
| ·复合过渡层采用Cu加固的CVD金刚石膜的研究 | 第49-55页 |
| ·样品制备 | 第49-50页 |
| ·表面形貌分析 | 第50-52页 |
| ·相结构分析 | 第52-53页 |
| ·Raman谱表征 | 第53-55页 |
| ·复合过渡层采用Cr加固的CVD金刚石膜的研究 | 第55-60页 |
| ·样品制备 | 第55-56页 |
| ·表面形貌分析 | 第56-57页 |
| ·相结构分析 | 第57-59页 |
| ·Raman谱表征 | 第59-60页 |
| ·复合过渡层采用Cu-Cr加固的CVD金刚石膜的研究 | 第60-64页 |
| ·样品制备 | 第60-61页 |
| ·SEM形貌分析 | 第61-62页 |
| ·相结构分析 | 第62-64页 |
| ·Raman谱表征 | 第64页 |
| ·金刚石膜附着性能的表征 | 第64-70页 |
| ·测试方法 | 第64-65页 |
| ·测试结果及讨论 | 第65-70页 |
| ·复合镀层上生长CVD金刚石膜的生长过程的研究 | 第70-72页 |
| ·样品制备 | 第70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附件 | 第83页 |