| 摘要 | 第1-15页 |
| Abstract | 第15-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-30页 |
| ·连续波DF/HF 化学激光器研究发展现状 | 第17-22页 |
| ·增益发生器研究发展现状 | 第22-26页 |
| ·高效混合增益发生器机理研究 | 第22-23页 |
| ·新型混合增强方式研究 | 第23-25页 |
| ·增益发生器新型运转方式及结构研究 | 第25-26页 |
| ·增益发生器研究内容、方法基本介绍 | 第26-28页 |
| ·本文结构安排 | 第28-30页 |
| 第二章 化学激光器数值模拟理论模型 | 第30-48页 |
| ·一维数值模拟理论模型 | 第30-33页 |
| ·三维数值模拟理论模型 | 第33-40页 |
| ·三维有反应流场控制方程 | 第33-36页 |
| ·化学反应动力学模型 | 第36页 |
| ·基元反应及三体系数 | 第36-37页 |
| ·混合气体输运特性 | 第37-38页 |
| ·谱线小信号增益系数及光腔折射率分布模型 | 第38-40页 |
| ·F 原子壁面复合模型 | 第40-43页 |
| ·F 原子复合反应数值模拟 | 第43-46页 |
| ·F 原子复合计算 | 第43-45页 |
| ·收缩段线型对F 原子复合影响计算 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 TRIP 型增益发生器混合机理数值模拟研究 | 第48-61页 |
| ·TRIP 型增益发生器基本结构及边界条件 | 第48-50页 |
| ·传统应用下流场数值模拟 | 第50-55页 |
| ·流场气动及组分参数分布 | 第50-53页 |
| ·器件增强气流混合机理研究 | 第53-55页 |
| ·扰流气组分对流场影响的数值模拟 | 第55-59页 |
| ·流场气动参数分布 | 第56-57页 |
| ·反应流场结构及光学性能研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 斜坡式混合增强方式数值模拟 | 第61-74页 |
| ·超音速气流燃烧特点及混合增强方式 | 第61-63页 |
| ·斜坡式喷管结构混合效果数值模拟 | 第63-69页 |
| ·基本结构混合效果 | 第63-66页 |
| ·不同结构混合情况比较 | 第66-69页 |
| ·斜坡式结构光腔一维数值模拟研究 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第五章 新型F 原子产生方式及气膜冷却式增益发生器 | 第74-89页 |
| ·DF 激光器无稀释剂实验 | 第74-76页 |
| ·一维数值模拟研究 | 第76-77页 |
| ·两步混合F 原子发生器及气膜冷却式增益发生器模型 | 第77-82页 |
| ·两步混合F 原子发生器 | 第78-79页 |
| ·气膜冷却式增益发生器 | 第79-82页 |
| ·离散孔He 气膜注入方式下喷管流场数值模拟 | 第82-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第六章 两步混合F 原子发生器与气膜冷却式增益发生器联合应用数值模拟 | 第89-114页 |
| ·增益发生器结构设计 | 第89-91页 |
| ·He 气膜注入对流场影响数值模拟 | 第91-98页 |
| ·壁面边界情况模拟 | 第91-96页 |
| ·周期边界情况模拟 | 第96-98页 |
| ·主稀释剂用作He 气膜流场数值模拟 | 第98-103页 |
| ·氧化剂、主燃料气流量保持恒定情况 | 第98-101页 |
| ·氧化剂、主燃料气流变流量情况 | 第101-103页 |
| ·副稀释剂用作He 气膜流场数值模拟 | 第103-105页 |
| ·副稀释剂去除情况流场数值模拟 | 第105-108页 |
| ·He 气膜流量计算分析 | 第108-112页 |
| ·本章小结 | 第112-114页 |
| 第七章 结论与展望 | 第114-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-127页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第127-128页 |
| 附录A 公式符号说明 | 第128-129页 |
| 附录B DF 激光器体系化学反应动力学方程和速率方程列表 | 第129-133页 |
